[發明專利]蝕刻膏,制備蝕刻膏的方法,利用蝕刻膏形成圖案的方法無效
| 申請號: | 201310078634.4 | 申請日: | 2013-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN103540321A | 公開(公告)日: | 2014-01-29 |
| 發明(設計)人: | 沈在俊 | 申請(專利權)人: | 第一毛織株式會社 |
| 主分類號: | C09K13/06 | 分類號: | C09K13/06;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 李丙林;張英 |
| 地址: | 韓國慶*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蝕刻 制備 方法 利用 形成 圖案 | ||
1.一種蝕刻膏,包括:酸化合物;有機粘結劑;選自胺化合物和銨化合物的至少一種化合物;鈷鋁氧化物;和溶劑。
2.根據權利要求1所述的蝕刻膏,其中在所述蝕刻膏中所述鈷鋁氧化物以1wt%至20wt%的量存在。
3.根據權利要求1所述的蝕刻膏,其中所述鈷鋁氧化物具有0.001μm至5μm的平均直徑(D50)。
4.根據權利要求1所述的蝕刻膏,其中選自所述胺化合物和所述銨化合物的所述至少一種化合物相對于所述酸化合物的摩爾比范圍是從1至1.5。
5.根據權利要求1所述的蝕刻膏,其中所述胺化合物由化學式1表示并且所述銨化合物由化學式2表示。
化學式1
(R)n-N-Hm
其中R是取代的或未取代的C1至C12烷基基團,取代的或未取代的C6至C12芳基基團,和取代的或未取代的C7至C15芳烷基基團,n是從1至3的整數,m是從0至2的整數,并且n+m是3,
化學式2
(NH4)kX
其中X是CO3、OH、或CO2NH2,并且k是1或2。
6.根據權利要求1所述的蝕刻膏,其中所述酸化合物包括磷酸、氟化氫、氟化銨、氟化氫銨,或它們的混合物。
7.根據權利要求1所述的蝕刻膏,其中所述有機粘結劑包括選自由以下組成的組中的至少一種:甲基纖維素、乙基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、羧甲基纖維素、羧甲基纖維素鈉、羧甲基羥乙基纖維素鈉、硝化纖維素、黃原膠、淀粉、明膠、聚乙烯醇縮丁醛、聚酰胺樹脂、thixotron、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、通過具有羥基或羧酸基的丙烯酸類單體的共聚反應獲得的丙烯酸聚合體、水溶性的(甲基)丙烯酸樹脂、聚醚-多元醇,和聚(醚脲)-聚氨酯。
8.根據權利要求1所述的蝕刻膏,其中所述蝕刻膏包括15wt%至50wt%的所述酸化合物,3wt%至20wt%的所述有機粘結劑,0.1wt%至10wt%的選自所述胺化合物和銨化合物的所述至少一種化合物,1wt%至20wt%的所述鈷鋁氧化物、并且余量為所述溶劑。
9.根據權利要求1所述的蝕刻膏,其中所述蝕刻膏進一步包括選自由以下組成的組中的至少一種:有機酸、無機顆粒、發泡劑、均化劑、防泡劑、增稠劑、觸變劑、增塑劑、分散劑、粘度穩定劑、UV穩定劑、抗氧化劑和偶聯劑。
10.根據權利要求1所述的蝕刻膏,進一步包括:無機顆粒,其中所述鈷鋁氧化物相對于所述無機顆粒的重量比是0.1至7。
11.一種形成圖案的方法,包括:
將根據權利要求1至10中任一項所述的蝕刻膏印刷在蝕刻目標沉積在其上的基板上;
干燥所述蝕刻膏;并且
洗滌所述蝕刻膏,從而形成圖案。
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