[發(fā)明專利]暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層及其制備方法和應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310074900.6
• 申請(qǐng)日: 2013-03-08
• 公開（公告）號(hào): CN104034071A
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋斌斌;劉靜;汪洪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)建筑材料科學(xué)研究總院;北京航玻新材料技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): F24J2/48
• 分類號(hào): F24J2/48;B32B9/04;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/08;C23C14/10
• 代理公司: 北京鼎佳達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11348
• 代理人: 王偉鋒;劉鐵生

1.暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層，其特征在于，包括：

基底層；

紅外反射層，設(shè)于基底層的頂面；

吸收層，設(shè)于紅外反射層的頂面，包括內(nèi)吸收層、中吸收層和外吸收層，其中

內(nèi)吸收層，設(shè)于紅外反射層的頂面，由TiN_x1O_y1制成，1.10＞x1＞0.90,0.70＞y1＞0.50；

中吸收層，設(shè)于內(nèi)吸收層的頂面，由TiN_x2O_y2制成，0.60＞x2＞0.50,1.30＞y2＞1.10；

外吸收層，設(shè)于中吸收層的頂面，由TiN_x3O_y3制成，0.50＞x3＞0.40,1.40＞y3＞1.30；

減反射層，設(shè)于吸收層的頂面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層，其特征在于，其中所述吸收層的厚度為30nm-130nm；其中內(nèi)吸收層的厚度為10nm-30nm，中吸收層的厚度為10nm-50nm，外吸收層的厚度為10nm-50nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層，其特征在于，其中所述基底層由鋁制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層，其特征在于，其中所述基底層的厚度為0.2-10mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層，其特征在于，其中所述的紅外反射層的厚度為90-500nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層，其特征在于，其中所述減反射層的厚度為80-100nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層，其特征在于，其中所述減反射層的材質(zhì)為二氧化硅。

8.權(quán)利要求1-7任一權(quán)項(xiàng)所述的暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

1）將基底層置于真空清洗室中，通入一定量的氬氣，進(jìn)行射頻氬離子清洗；

2）在僅通入流量為50sccm氬氣的條件下，以純鋁為靶材，采用磁控濺射法在上述清洗后的基底層上制備鋁紅外反射層；

3）將上述制得的紅外反射層置于鈦靶下，向真空室中通入流量為50sccm的氬氣和8sccm的氮?dú)猓捎么趴貫R射法在上述的紅外反射層上制備內(nèi)吸收層；然后通入流量為2-3sccm的氧氣，繼續(xù)以金屬鈦為靶材通過反應(yīng)磁控濺射法在上述內(nèi)吸收層上制備中吸收層；最后，將氬氣和氮?dú)夥謩e增加至原來的兩倍，并增加氧氣流量至3-4sccm，繼續(xù)以金屬鈦為靶材通過反應(yīng)磁控濺射法在上述中吸收層上制備外吸收層；

4）將步驟3）得到的產(chǎn)品置于硅靶前，通入流量為50sccm氬氣和15-30sccm的氧氣，采用反應(yīng)磁控濺射法在上述外吸收層上制備減反射層。

9.權(quán)利要求1-7任一權(quán)項(xiàng)所述的暗綠色太陽(yáng)能光譜選擇性吸收涂層在太陽(yáng)能集熱器上的應(yīng)用，其中所述太陽(yáng)能集熱器為平板式太陽(yáng)能集熱器或真空管式太陽(yáng)能集熱器。