[發(fā)明專利]晶體管及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310073946.6 | 申請日: | 2013-03-08 |
| 公開(公告)號: | CN103579310B | 公開(公告)日: | 2017-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李昌承;金容誠;李周浩;鄭鏞席 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L29/16 | 分類號: | H01L29/16;H01L21/335 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所11105 | 代理人: | 屈玉華 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶體管 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及晶體管和該晶體管的制造方法,更具體地,涉及石墨烯晶體管和石墨烯晶體管的制造方法。
背景技術(shù)
石墨烯是由碳原子構(gòu)成的單層六方結(jié)構(gòu),其在化學(xué)上和結(jié)構(gòu)上是穩(wěn)定的,并且表現(xiàn)出優(yōu)異的電/物理性能。例如,石墨烯具有高達大約2×105cm2/Vs的電荷遷移率,這比硅(Si)快一百倍,并且具有大約108A/cm2的電流密度,這比銅(Cu)大一百倍。因此,石墨烯作為可以克服對普通器件的限制的下一代材料已經(jīng)引起了關(guān)注。
由于石墨烯的各種優(yōu)點,已經(jīng)開展了許多將石墨烯應(yīng)用于各種電子裝置(例如,晶體管)的研究。然而,事實上,由于在形成石墨烯的工藝中存在一些限制,所以難以通過使用石墨烯來制造器件。另外,在石墨烯與另一材料之間的界面發(fā)生的缺陷會使得包括石墨烯的電子裝置的特性退化。
發(fā)明內(nèi)容
提供了晶體管,其使用石墨烯和由石墨烯轉(zhuǎn)變的材料。
提供了防止石墨烯溝道層和與該石墨烯溝道層接觸的材料層(例如,柵絕緣層)之間的界面缺陷的晶體管。
提供了其中溝道層、柵絕緣層和柵極由石墨烯或從石墨烯轉(zhuǎn)變的材料形成的晶體管。
提供了制造晶體管的方法。
附加的方面將在隨后的描述中部分地闡述,并且部分地由該描述而明顯,或可以通過實踐給出的實施例而習(xí)之。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,晶體管包括:溝道層,包括石墨烯;柵絕緣層,設(shè)置在溝道層的表面上并且包括氟化石墨烯;柵極,設(shè)置為面對溝道層,柵絕緣層插置在柵極與溝道層之間;以及源極和漏極,分別電連接到溝道層的第一和第二區(qū)域。
柵極可以包括石墨烯。
溝道層可以包括圖案化的石墨烯區(qū)域,所述圖案化的石墨烯區(qū)域是納米尺度圖案化的區(qū)域。
溝道層可以包括氟化石墨烯區(qū)域和非氟化石墨烯區(qū)域,該非氟化石墨烯區(qū)域可以與該圖案化的石墨烯區(qū)域相應(yīng)。
圖案化的石墨烯區(qū)域可以包括石墨烯納米帶(GNR)區(qū)域。
圖案化的石墨烯區(qū)域可以包括石墨烯納米網(wǎng)(GNM)區(qū)域。
溝道層可以是單層石墨烯。
柵絕緣層可以是氟化的單層石墨烯。
柵絕緣層可以還包括設(shè)置在氟化石墨烯與柵極之間的絕緣層。
柵絕緣層可以設(shè)置在溝道層的一部分上,源極可以設(shè)置在柵絕緣層一側(cè)的溝道層上,漏極可以設(shè)置在柵絕緣層另一側(cè)的溝道層上。
晶體管可以還包括:第一石墨烯區(qū)域,設(shè)置在溝道層與源極之間;以及第二石墨烯區(qū)域,設(shè)置在溝道層與漏極之間。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,晶體管包括:溝道層,包括由附接有化學(xué)改進劑的石墨烯構(gòu)成的區(qū)域和由該區(qū)域限定的圖案化的石墨烯區(qū)域;柵絕緣層,設(shè)置在溝道層的表面上;柵極,設(shè)置為面對溝道層,柵絕緣層設(shè)置在柵極與溝道層之間;以及源極和漏極,分別電連接到溝道層的第一和第二區(qū)域。
由附接有化學(xué)改進劑的石墨烯構(gòu)成的區(qū)域可以是由未附接所述化學(xué)改進劑的石墨烯而化學(xué)轉(zhuǎn)變的。
由附接有化學(xué)改進劑的石墨烯構(gòu)成的該區(qū)域可以是氟化石墨烯區(qū)域。
圖案化的石墨烯區(qū)域可以包括石墨烯納米帶(GNR)區(qū)域或石墨烯納米網(wǎng)(GNM)區(qū)域。
柵絕緣層可以包括氟化石墨烯。
柵極可以包括石墨烯。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,晶體管包括:溝道層、柵絕緣層、柵極、源極和漏極,其中溝道層、柵絕緣層和柵極包括石墨烯和由附接有化學(xué)改進劑的石墨烯構(gòu)成的材料中的至少一種。
由附接有化學(xué)改進劑的石墨烯構(gòu)成的材料是由未附接化學(xué)改進劑的石墨烯而化學(xué)轉(zhuǎn)變的。
柵絕緣層可以包括氟化石墨烯。
溝道層可以包括石墨烯。
溝道層可以包括氟化石墨烯區(qū)域和由氟化石墨烯區(qū)域限定的圖案化的石墨烯區(qū)域。
柵極可以包括石墨烯。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,制造晶體管的方法包括:形成多層結(jié)構(gòu),該多層結(jié)構(gòu)包括溝道層和柵絕緣層,該溝道層包括石墨烯,該柵絕緣層包括氟化石墨烯;形成柵極,該柵極設(shè)置為面對溝道層,柵絕緣層插置在柵極與溝道層之間;以及形成源極和漏極,該源極和漏極分別電連接到溝道層的第一和第二區(qū)域。
形成多層結(jié)構(gòu)可以包括:在基板上形成多層石墨烯,該多層石墨烯包括第一石墨烯和第二石墨烯;以及將至少一部分的第二石墨烯轉(zhuǎn)變成氟化石墨烯。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于三星電子株式會社,未經(jīng)三星電子株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310073946.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





