[發(fā)明專利]一種用于光刻設(shè)備的大掩模板面型補(bǔ)償裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310064813.2
• 申請(qǐng)日: 2013-03-01
• 公開（公告）號(hào): CN104020643A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許琦欣;龔輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種用于光刻設(shè)備的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述面型補(bǔ)償裝置位于照明單元與掩模板之間，包括：設(shè)置有若干抽排孔的玻璃板、抽排控制單元；

所述玻璃板位于掩模板上方，與掩模板平行設(shè)置；所述玻璃板相對(duì)物鏡組固定設(shè)置，且至少覆蓋掩模板當(dāng)前曝光區(qū)域；

所述抽排控制單元通過所述抽排孔對(duì)所述玻璃板與掩模板之間的間隙進(jìn)行抽排，在掩模板上下表面間形成壓力差，補(bǔ)償所述掩模板的自重變形量。

2.如權(quán)利要求1所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述抽排孔對(duì)應(yīng)分布在物方視場(chǎng)區(qū)域的周圍。

3.如權(quán)利要求2所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述抽排孔對(duì)稱地分布在物方視場(chǎng)區(qū)域的兩側(cè)，數(shù)量至少為2個(gè)。

4.如權(quán)利要求1所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述掩模板上表面與所述玻璃板下表面間隔為1mm~5mm。

5.如權(quán)利要求1所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述玻璃板位于光刻設(shè)備的外部框架，掩模臺(tái)位于光刻設(shè)備的內(nèi)部框架，且內(nèi)、外部框架之間無剛性連接。

6.如權(quán)利要求1所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述抽排控制單元包括相互連結(jié)的風(fēng)機(jī)和控制系統(tǒng)，對(duì)各抽排孔的抽速進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)整。

7.如權(quán)利要求1所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述玻璃板為紫外光透過率大于90%的材料。

8.如權(quán)利要求7所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述玻璃板為石英玻璃或光學(xué)玻璃。

9.如權(quán)利要求5所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述面型補(bǔ)償裝置還包括玻璃板支撐框架，其與所述玻璃板剛性連接；所述玻璃板通過玻璃板支撐框架固定于光刻設(shè)備的外部框架。

10.如權(quán)利要求1所述的大掩模板面型補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述各抽排孔的抽速可單獨(dú)進(jìn)行控制。