[發明專利]一種耐磨抗菌ABS改性材料及其制備方法

有效

• 申請號: 201310064444.7
• 申請日: 2013-02-28
• 公開（公告）號: CN103146119A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 石鑫;袁紹彥;劉奇祥;吳博;葉丹瀅
• 申請（專利權）人: 金發科技股份有限公司
• 主分類號: C08L55/02
• 分類號: C08L55/02;C08L51/00;C08L35/06;C08K3/22;C08K3/08;C08J7/06;C23C14/34;C23C14/08
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 林火城

1.一種耐磨抗菌改性ABS材料，所述材料的主要成分為按重量份計包括：

ABS75～86份；

納米二氧化鈦顆粒1～2份；

納米銀顆粒0.5～3份；

抗菌材料分散改性劑2～6份；

抗氧劑0.1～2份；

甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物或丙烯腈-苯乙烯-丙烯酸酯共聚物5～10份；

苯乙烯-馬來酸酐無規共聚物2～5份；

并且，在所述材料的表面有通過等離子濺射技術形成的二氧化鈦膜層。

2.一種耐磨抗菌改性ABS材料，所述材料的主要成分為按重量份計包括：

ABS80～83份；

納米二氧化鈦顆粒1.5～1.8份；

納米銀顆粒1～2份；

抗菌材料分散改性劑4～6份；

抗氧劑0.1～1份；

甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物或丙烯腈-苯乙烯-丙烯酸酯共聚物6～8份；

苯乙烯-馬來酸酐無規共聚物3～5份；

并且，在所述材料的表面有通過等離子濺射技術形成的二氧化鈦膜層。

3.根據權利要求1或2所述的耐磨抗菌改性ABS材料，其特征在于：

所述的納米二氧化鈦顆粒的粒徑范圍在20-60nm之間。

4.根據權利要求1或2所述的耐磨抗菌改性ABS材料，其特征在于：

所述的納米銀顆粒的粒徑范圍在10-50nm之間。

5.根據權利要求1或2所述的耐磨抗菌改性ABS材料，其特征在于：

所述抗菌材料分散改性劑為乙烯、丙烯或α烯烴的低聚物，或者它們的組合物的低聚物。

6.根據權利要求1或2所述的耐磨抗菌改性ABS材料，其特征在于：

所述的抗氧劑為酚類抗氧劑、亞磷酸酯類抗氧劑中的一種，或者其中多種的組合物，所述酚類抗氧劑選自BHT、1010或1076，所述亞磷酸酯類抗氧劑選自168或626。

7.根據權利要求1或2所述的耐磨抗菌改性ABS材料，其特征在于：

所述的二氧化鈦薄膜厚度為300-600nm。

8.一種如權利要求1-7任一項所述的耐磨抗菌改性ABS材料的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

1）使用上述原料的比例，采用熔融共混法，制備得到共混材料；

2）干燥上述原料至含水量低于0.01wt%，采用聚合物成型方法，將上述原料制備成所需形狀的制品的主體；

3）在含有氧氣的氣體氛圍下，使用純鈦為靶材，進行等離子體濺射工藝，從而在上述制品的表面形成二氧化鈦薄膜；

其中，熔融共混法是指在加工溫度在ABS熔點以上的溫度，轉速50～1200rpm，通過熔融混煉設備將各種組分混合均勻，并造粒成型；二氧化鈦薄膜的厚度為300-600nm。

9.權利要求8所述的耐磨抗菌改性ABS材料的制備方法，其特征在于：

所述等離子濺射工藝中，射頻功率為70-200w，偏壓50-80V，濺射時間為15-30分鐘。

10.一種如權利要求1-7任一項所述的耐磨抗菌改性ABS材料的應用，其特征在于：

所述ABS改性材料應用于醫用材料、家具或家電領域。