[發(fā)明專利]曝光裝置及曝光方法、圖案膜的制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310063956.1
• 申請(qǐng)日: 2013-02-28
• 公開（公告）號(hào): CN103365111A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 香川英章;大場(chǎng)孝浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 陳建全

1.一種曝光裝置，其是通過(guò)隔著掩模對(duì)光反應(yīng)性膜照射光而使所述光反應(yīng)性膜曝光的曝光裝置，其特征在于，具備：

金屬制的支撐輥，其具有對(duì)表面上形成有光反應(yīng)性膜的可撓性料片的背面進(jìn)行支撐的周面，并以10m/分鐘以上的速度來(lái)輸送所述被支撐的可撓性料片，并且所述支撐輥的直徑為300mm～800mm的范圍內(nèi)；

組合角接觸球軸承，其設(shè)置于所述支撐輥的旋轉(zhuǎn)軸的兩端，并吸收由于施加于所述支撐輥的旋轉(zhuǎn)軸上的徑向負(fù)載和兩方向的軸向負(fù)載所產(chǎn)生的負(fù)荷；

光源，其朝著形成在所述被支撐的所述可撓性料片上的所述光反應(yīng)性膜，以100mJ/cm²以下的曝光量對(duì)所述光反應(yīng)性膜照射引起光反應(yīng)的光；

掩模，其以接近所述支撐輥的狀態(tài)配置于所述光源和所述支撐輥之間，并具有使來(lái)自所述光源的光通過(guò)的狹縫，所述狹縫在所述可撓性料片的輸送方向上延伸，并在所述可撓性料片的寬度方向上以一定間距排列有多條。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述光源照射的所述光是紫外線。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，所述光掩模板具有矩形的板和掩蔽膜，所述板對(duì)所述光是透明的并且不具有反應(yīng)性，所述掩蔽膜由對(duì)所述光是不透明并且不具有反應(yīng)性的材料來(lái)形成于所述板的至少任一個(gè)面上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述板由無(wú)臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一種材料構(gòu)成。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述掩蔽膜是由金屬形成的。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，所述金屬是鉻。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述掩蔽膜是使用真空蒸鍍、電子束蒸鍍、離子束蒸鍍、等離子體蒸鍍、濺射中的任一種方法來(lái)形成的。

8.一種曝光方法，其是通過(guò)隔著掩模對(duì)形成在可撓性料片上的光反應(yīng)性膜照射光而使所述光反應(yīng)性膜曝光的曝光方法，其特征在于，具有下述工序：

輸送工序，在該工序中，由直徑為300mm～800mm的范圍內(nèi)的金屬制的支撐輥從背面來(lái)支撐表面上形成有光反應(yīng)性膜的可撓性料片，同時(shí)以10m/分鐘以上的速度來(lái)連續(xù)輸送；

照射工序，在該工序中，朝著所述被支撐的所述可撓性料片上的所述光反應(yīng)性膜，由光源以100mJ/cm²以下的曝光量對(duì)所述光反應(yīng)性膜照射引起光反應(yīng)的光；

所述掩模以接近所述支撐輥的狀態(tài)配置于所述光源和所述支撐輥之間，并具有多條狹縫，所述多條狹縫在所述可撓性料片的輸送方向上延伸，并在所述可撓性料片的寬度方向上以一定間距排列有多條。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述支撐輥的表面溫度為15～30℃的范圍內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的曝光方法，其特征在于，所述光是紫外線，所述光反應(yīng)性膜含有具有與紫外線反應(yīng)的性質(zhì)的化合物。

11.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的曝光方法，其特征在于，所述掩模具有矩形的板和掩蔽膜，所述板對(duì)所述光是透明的并且不具有反應(yīng)性，所述掩蔽膜由對(duì)所述光是不透明并且不具有反應(yīng)性的材料來(lái)形成于所述板的至少任一個(gè)面上。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述板由無(wú)臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一種材料構(gòu)成。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述掩蔽膜是由金屬形成的。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的曝光方法，其特征在于，所述金屬是鉻。

15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述掩蔽膜是使用真空蒸鍍、電子束蒸鍍、離子束蒸鍍、等離子體蒸鍍、濺射中的任一種方法來(lái)形成的。