[發明專利]顯示器用玻璃基板的制造方法、玻璃基板以及顯示器用面板

有效

• 申請號: 201310062080.9
• 申請日: 2013-02-27
• 公開（公告）號: CN103373818B
• 公開（公告）日: 2017-05-17
• 發明（設計）人: 樸永太
• 申請（專利權）人: 安瀚視特控股株式會社
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 丁香蘭,龐東成

技術領域

本發明涉及用于液晶顯示器、等離子體顯示器、有機EL顯示器等平板顯示器的顯示器用玻璃基板的制造方法、玻璃基板以及顯示器用面板。

背景技術

以往以來，在采用了作為顯示用面板而使用的液晶顯示器面板、等離子體顯示器面板、或有機EL顯示器面板的平板顯示器的制造中，使用曝光裝置并通過光蝕刻(Photolithography)在玻璃基板上形成精細的薄膜圖案。

用于這些平板顯示器的顯示器面板是在將玻璃基板投入到生產線上之后，經過搬運、成膜、光蝕刻、蝕刻、摻雜或布線等各個處理而制造得到的。在各個處理中，由于各種各樣的原因，含有玻璃基板的面板處在容易產生靜電的環境中。例如，將玻璃基板投入至生產線上時，從夾著隔紙而層積得到的2片以上的玻璃基板中將隔紙剝離除去從而一張一張地取出玻璃基板。此時，玻璃基板在除去隔紙時易產生靜電。另外，為了成膜等而使用半導體制造裝置的情況下，將玻璃基板放置在載置臺上來進行成膜。此時，在玻璃基板上易產生由于氣流而導致的靜電、接觸靜電或剝離靜電。剝離靜電是將密合在載置臺上的玻璃基板從載置臺上取下時產生的靜電。

這樣的靜電會引起各種各樣的問題，因此優選盡可能不產生靜電。例如，在玻璃基板上形成TFT(薄膜晶體管)和布線圖案時，灰塵或塵垢等雜質會因靜電而附著在玻璃基板或布線圖案上，有時會產生布線圖案的缺損、剝離。另外有時由于蓄積的電荷的放電會產生TFT的破壞等。另外，玻璃基板有時會因上述靜電而粘附在載置臺上，從而有時在將玻璃基板從載置臺上取下時會發生破裂。

這種情況下，已知有使用離子發生器來進行帶有靜電的玻璃基板的除電的方法(專利文獻1)。另外，對于曝光裝置，也已知有放置處理基板(玻璃基板)的臺面的表面具有1μm～100μm的表面粗糙度的曝光裝置(專利文獻2)。

與此相對，已知有能夠抑制在從接觸狀態將玻璃基板剝離時產生的靜電的顯示器用玻璃基板(專利文獻3)。具體而言，該玻璃基板是板厚為0.3mm～6mm的顯示器用玻璃基板，其中，通過使用測定長度為200mm、截止值為0.8mm～25mm的相位補償型2RC帶通濾波器的觸針式表面粗糙度測定器測定得到的W_CA(濾波中心線波紋度)的平均值為0.03μm～0.5μm。該玻璃基板能夠減小與載置臺之間的接觸面積，而且能夠抑制靜電。

進一步，也已知有對玻璃表面進行化學處理以使其算術平均粗糙度Ra為0.3nm～1.5nm(專利文獻4)。具體而言，通過使玻璃基板的算術平均粗糙度Ra為0.3nm～1.5nm，由此能夠減小玻璃基板與載置臺之間的接觸面積，其結果能夠減少靜電量。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2009-64950號公報

專利文獻2：日本特開2007-322630號公報

專利文獻3：日本特開2002-72922號公報

專利文獻4：日本特開2010-275167號公報

發明內容

發明所要解決的課題

但是，為了在玻璃基板的玻璃表面上形成表面凹凸，即使使上述W_CA(濾波中心線波紋度)的平均值為0.03μm～0.5μm、或者即使對玻璃表面進行化學處理以使其算術平均粗糙度Ra為0.3nm～1.5nm，有時也無法充分得到抗靜電效果。特別是對于與線寬和間距狹窄的布線圖案一同使用的面向高精細/高分辨率顯示器的例如形成有氧化物半導體或低溫多晶硅半導體的玻璃基板，按照以往的使用上述參數進行管理，無法充分對應面向高精細/高分辨率顯示器的玻璃基板的品質要求。例如，對于面向高精細/高分辨率顯示器的玻璃基板，在所形成的布線圖案中即使僅產生微小缺陷則作為顯示器也是不適合的。另外，還存在如下問題：若布線圖案的線寬或布線圖案的間距間隔狹窄，則由于靜電而導致的放電，即使該放電是低水平的放電，也容易產生半導體元件的靜電破壞。

因此，本發明的目的在于提供一種顯示器用玻璃基板的制造方法和玻璃基板、以及使用了該玻璃基板的顯示器用面板，所述顯示器用玻璃基板的制造方法能夠抑制玻璃基板移動或搬運時的靜電，而且在半導體制造裝置中從載置臺與玻璃基板接觸的狀態將玻璃基板從載置臺取下時，能夠在該取下時難以產生靜電。

用于解決課題的方法

本發明的一個方式是形成有半導體元件的顯示器用玻璃基板的制造方法。該制造方法具有：

制作玻璃基板的工序；和

對所述玻璃基板的主表面中的一側的玻璃表面進行表面處理從而形成表面凹凸的工序。