[發明專利]等離子體邊界限制器單元和用于處理基板的設備有效
| 申請號: | 201310061470.4 | 申請日: | 2013-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN103295867A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發明(設計)人: | 具一教;沈鉉宗 | 申請(專利權)人: | 細美事有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 楊生平;鐘錦舜 |
| 地址: | 韓國忠*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 邊界 限制器 單元 用于 處理 設備 | ||
1.一種用于處理基板的設備,該設備包括:
處理室,其具有開口,基板通過該開口被加載或卸載,該處理室包括用于打開或關閉開口的門組件;
支撐單元,其被設置在處理室內以支撐基板;
氣體供應單元,其用于向處理室中供應處理氣體;
等離子體生成單元,其用于從處理氣體生成等離子體;以及
等離子體邊界限制器單元,其被設置在處理室內以圍繞在支撐單元上面限定的排放空間,該等離子體邊界限制器單元使從排放空間泄漏的等離子體最小化,
其中所述等離子體邊界限制器單元包括沿著排放空間的圓周設置的多個板;以及
所述多個板沿著排放空間的圓周被相互間隔開,使得排放空間內的氣體通過在相鄰板之間提供的通道而流到排放空間外面。
2.根據權利要求1的設備,其中所述等離子體邊界限制器單元還包括用于將所述多個板相互耦接的耦接構件。
3.根據權利要求2的設備,其中所述耦接構件被提供為環狀體。
4.根據權利要求3的設備,其中所述環狀體被設置在板的上端上。
5.根據權利要求3或4的設備,其中所述環狀體包括:
第一主體;以及
第二主體,其可在處理室內相對于第一主體豎直地移動,
其中所述第一主體和第二主體被相互組合而形成環形狀。
6.根據權利要求5的設備,其中所述第二主體被耦接到門組件以與門組件一起豎直地移動。
7.根據權利要求5的設備,還包括用于豎直地驅動第二主體的主體驅動器。
8.根據權利要求1至4中的任一項的設備,其中所述板在其之間具有相同的距離。
9.根據權利要求1至4中的任一項的設備,其中所述板沿豎直方向具有不同的厚度,使得通道沿著豎直方向具有不同的寬度。
10.根據權利要求9的設備,其中所述通道中的每一個的下寬度小于其上寬度。
11.根據權利要求3或4的設備,其中所述第一主體和所述第二主體被相互組合以形成圓環形狀,并且
平行于每個板的環狀體的半徑方向的側邊的長度比垂直于環狀體的半徑方向的側邊的長度更長。
12.根據權利要求3或4的設備,其中所述第一主體和所述第二主體被相互組合以形成圓環形狀,并且
所述板在其長度方向上具有相同的寬度,使得沿著環狀體的半徑方向設置的板之間的距離朝著排放空間的外面逐漸地加寬。
13.根據權利要求3或4的設備,其中所述第一主體和所述第二主體被相互組合以形成圓環形狀,并且
每個板具有沿著其長度方向朝著排放空間的外面逐漸地增加的寬度,使得沿著環狀體的半徑方向設置的板在其之間具有相同的距離。
14.根據權利要求3或4的設備,其中沿著環狀體的長度方向設置的板在其之間具有不同的距離。
15.根據權利要求1至4中的任一項的設備,其中板的下端被鄰近于支撐單元的上端設置。
16.根據權利要求1至4中的任一項的設備,其中板的下端被設置在支撐單元的上端下面。
17.根據權利要求1至4中的任一項的設備,其中每個板沿著遠離排放空間的方向彎曲。
18.根據權利要求1至4中的任一項的設備,其中每個板豎直地彎曲。
19.根據權利要求2或3的設備,其中所述耦接構件被耦接到門組件以與門組件一起豎直地移動。
20.根據權利要求19的設備,其中門組件包括:
外門,其設置在處理室外面;
內門,其設置在處理室內部而面對外門,所述內門被耦接到耦接構件;以及
連接板,其將外門連接到內門,
其中所述外門被門驅動器豎直地驅動。
21.根據權利要求1至4中的任一項的設備,其中等離子體邊界限制器單元由導電材料形成,并且
等離子體邊界限制器單元與上電極接觸,使得等離子體邊界限制器單元被電連接至上電極。
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