[發(fā)明專利]一種電子束表面微造型的動態(tài)加工方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310041090.4 | 申請日: | 2013-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN103084726A | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王西昌;鞏水利;許恒棟;毛智勇;左從進 | 申請(專利權)人: | 中國航空工業(yè)集團公司北京航空制造工程研究所 |
| 主分類號: | B23K15/06 | 分類號: | B23K15/06 |
| 代理公司: | 中國航空專利中心 11008 | 代理人: | 陳宏林 |
| 地址: | 100095 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子束 表面 造型 動態(tài) 加工 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明是一種電子束表面微造型的動態(tài)加工方法,屬于電子束表面加工技術領域。
背景技術
傳統(tǒng)的表面處理方法大多局限于毛化技術領域,目前主要利用噴丸、電火花、激光等不同的加工技術實現(xiàn),但毛化技術只能對材料表面進行粗糙化處理,產(chǎn)生凹坑和不規(guī)則突起等表面形貌,其中噴丸和電火花毛化技術所產(chǎn)生的形貌均勻性較差,形貌尺寸不可控,高度和密度也不可控,難以實現(xiàn)均勻的、規(guī)則的表面形貌制備,且加工效率較低、有粉塵污染,不利于環(huán)保。激光毛化技術所產(chǎn)生的表面形貌最大高度小于10微米,加工過程中可能導致表面形貌被環(huán)境氣體污染。傳統(tǒng)的電子束加工技術也可應用于表面加工領域,但其對電子束功率和掃描控制要求不高,加工精度不高,無法實現(xiàn)高效、均勻性較好的表面微造型制備。
目前已有針對傳統(tǒng)表面處理方法的不足而開發(fā)的新型電子束表面微造型方法,是利用電子束的掃描,實現(xiàn)金屬材料的表面形貌制備,然而,由于電子束偏轉角度具有一定的限制,該方法無法實現(xiàn)大面積的表面形貌制備。如利用該方法通過拼接的方式實現(xiàn)大面積的表面處理,則表面均勻性和連續(xù)性較差,加工效率相對較低,無法滿足加工要求。
發(fā)明內容
本發(fā)明正是針對上述現(xiàn)有技術中存在的不足而設計提供一種電子束表面微造型的動態(tài)加工方法,其目的是將電子束的高速掃描與工作臺移動相結合,通過電子束掃描速度與工作臺移動速度的匹配,實現(xiàn)金屬材料的大面積表面形貌的制備,具有加工面積不受電子束偏轉角度限制、加工表面均勻性好、連續(xù)性好、加工效率高的優(yōu)點。
本發(fā)明的目的是通過以下技術方案來實現(xiàn)的:
該種電子束表面微造型的動態(tài)加工方法,該方法是利用小功率、高品質電子束,通過電磁場控制進行掃描,按一定的掃描軌跡(1)作用于金屬表面,產(chǎn)生幾微米到幾百微米的微小突起,所述掃描軌跡(1)的排列方式為常規(guī)陣列或交錯陣列,常規(guī)陣列是矩陣陣列的排列方式,相鄰兩行掃描軌跡(1)之間的行間距相等,相鄰兩列掃描軌跡(1)之間的列間距相等;交錯陣列是在常規(guī)陣列基礎上,插入掃描軌跡(1),插入的每一個掃描軌跡(1)位于常規(guī)陣列相鄰兩行和相鄰兩列掃描軌跡(1)中間,其特征在于:該方法依據(jù)掃描軌跡(1)的兩種排列方式分別如下:
1.1當掃描軌跡(1)的排列方式為常規(guī)陣列時,該方法的步驟為:
1.1.1準備電子束加工設備,該設備需滿足:電子束功率為10~1000W,束流直徑為0.3~0.7mm,電子束的掃描速度為0.1~5m/s,工作臺可由電機驅動實現(xiàn)橫向移動,移動精度為0.1mm/s,將工件放置于工作臺上;
1.1.2用繪圖軟件編輯常規(guī)陣列,選取常規(guī)陣列的首列為常規(guī)掃描單元(2),將常規(guī)掃描單元(2)上傳到電子束加工設備的控制系統(tǒng)中;
1.1.3啟動電子束加工設備,按常規(guī)掃描單元(2)的軌跡在工件表面待加工區(qū)的一端開始掃描,同時工作臺橫向移動,使電子束的掃描移向工件表面待加工區(qū)的另一端,電子束掃描速度u和工作臺移動速度v應滿足以下關系式
u/v=L/x
其中:L為常規(guī)掃描單元(2)的長度,x為工件表面加工后相鄰兩列微小突起之間的距離;
1.2當掃描軌跡(1)的排列方式為交錯陣列時,該方法的步驟為:
1.2.1準備電子束加工設備,該設備需滿足:電子束功率為10~1000W,束流直徑為0.3~0.7mm,電子束的掃描速度為0.1~5m/s,工作臺可由電機驅動實現(xiàn)橫向移動,移動精度為0.1mm/s,將工件放置于工作臺上;
1.2.2用繪圖軟件編輯交錯陣列,該交錯陣列相鄰兩列之間的距離d應滿足以下關系式
d<0.5x
其中:x為工件表面加工后相鄰兩列微小突起之間的距離;
1.2.3選取交錯陣列前端N列為交錯掃描單元(3),其中,N>1,N的取值為可通過平移復制形成該交錯陣列的列數(shù)的最小值,將交錯掃描單元(3)上傳到電子束加工設備的控制系統(tǒng)中;
1.2.4啟動電子束加工設備,按交錯掃描單元(3)的軌跡在工件表面待加工區(qū)的一端開始掃描,同時工作臺橫向移動,使電子束的掃描移向工件表面待加工區(qū)的另一端,電子束掃描速度u和工作臺移動速度v應滿足以下關系式
u/v=L/x
式中:L為交錯掃描單元(3)每一列的長度,x為工件表面加工后相鄰兩列微小突起之間的距離。
所述掃描軌跡(1)是等長線段的組合,該等長線段向中心匯集。
所述掃描軌跡(1)是阿基米德螺線、三角函數(shù)曲線或同心圓曲線中的一種或幾種組合而成。
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