[發明專利]一種圖形化襯底制備方法

有效

• 申請號: 201310037405.8
• 申請日: 2013-01-31
• 公開（公告）號: CN103117337A
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發明（設計）人: 鄭遠志;康建;徐琦;陳靜;盛成功
• 申請（專利權）人: 馬鞍山圓融光電科技有限公司
• 主分類號: H01L33/00
• 分類號: H01L33/00
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 孫佳胤

1.一種圖形化襯底制備方法，包括如下步驟：

在襯底表面形成光學膜；

在光學膜上制備出圖形化的掩模層；

通過掩模層刻蝕光學膜；

其特征在于，光學膜包括交替排布的光密介質層和光疏介質層，單層厚度為后續制作在襯底表面發光器件所發射的光在該介質內傳輸時波長的四分之一。

2.如權利要求1所述的圖形化襯底制備方法，其特征在于，光密介質層和光疏介質層交替排布的對數在3至30對之間。

3.如權利要求1所述的圖形化襯底制備方法，其特征在于，在形成光學膜之前，包括在襯底表面形成介質膜的步驟，并進一步在介質膜表面形成光學膜，且所述刻蝕步驟進一步刻蝕介質膜。

4.如權利要求3所述的圖形化襯底制備方法，其特征在于，介質膜的厚度小于3μm。

5.如權利要求1或3所述的圖形化襯底制備方法，其特征在于，所述刻蝕步驟進一步刻蝕暴露出來的襯底。

6.如權利要求1所述的圖形化襯底制備方法，其特征在于，光疏介質層的材料選自于氧化硅、氮氧化硅、氮化硅和氧化鎂中的一種或多種的組合，光密介質層的材料選自于氧化鈦和氧化鋯中的一種或多種的組合。

7.如權利要求1所述的圖形化襯底制備方法，其特征在于，刻蝕步驟中，在光學膜中形成周期排布的實體的或者鏤空的圖形，所述實體或者鏤空圖形的形狀選自于圓形、矩形、三角形或六邊形中的任意一種，圖案間隔周期為1至10μm。

8.如權利要求1所述的圖形化襯底制備方法，其特征在于，所述襯底的材料是藍寶石，所述掩模層的材料是光刻膠。

9.如權利要求3所述的圖形化襯底制備方法，其特征在于，介質膜材料選自于氧化硅、氮氧化硅、氮化硅、氧化鋁和氧化鈦中的一種或者多種的組合。

10.一種權利要求1所述方法制作的圖形化襯底，包括襯底以及襯底表面的光學膜，其特征在于，所述光學膜是圖形化的；光學膜包括交替排布的光密介質層和光疏介質層，單層厚度為后續制作在襯底表面發光器件所發射的光在該介質內傳輸時波長的四分之一。