[發(fā)明專利]冷阱及冷阱的控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310032854.3 | 申請日: | 2013-01-28 |
| 公開(公告)號: | CN103223260A | 公開(公告)日: | 2013-07-31 |
| 發(fā)明(設計)人: | 田中秀和 | 申請(專利權(quán))人: | 住友重機械工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | B01D8/00 | 分類號: | B01D8/00 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 溫旭;郝傳鑫 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 控制 方法 | ||
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及一種冷阱及冷阱的控制方法。
背景技術(shù)
作為通過冷凝或吸附而將氣體分子捕捉在冷卻至超低溫的低溫板上來提高真空度的裝置,已知有低溫泵或冷阱(例如參考專利文獻1)。冷阱通常設置于渦輪分子泵等真空泵的前段,與真空泵協(xié)同進行排氣動作。在冷阱中,通常附帶設置有冷卻用流體的供給系統(tǒng)或超低溫制冷機等冷卻裝置,低溫板的表面被冷卻至超低溫。
專利文獻1:日本特開2009-262083號公報
冷阱中,通常捕捉在低溫板表面的水分等的量越多排氣能力越降低,所以需要定期進行向外部排出被捕捉的水分等的再生處理。該再生處理中,由于水分等從低溫板再氣化,所以通常用閥等從排氣對象切斷開冷阱,或者停止包括冷阱的整個裝置的運行。當為前者時向真空度的不良影響令人擔憂,為后者時存在被安裝冷阱的裝置的利用率降低的可能性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這種情況而完成的,其目的在于提供一種能夠連續(xù)運行的冷阱及冷阱的控制方法。
本發(fā)明的一種形態(tài)涉及冷阱。該冷阱為具備能夠獨立控制的多個冷卻單元,且配置于將排氣對象容積與真空泵連接的排氣流路內(nèi),其中各冷卻單元包含:露出配置于排氣流路的板單元;及與板單元熱連接并對板單元進行冷卻的制冷機。各冷卻單元的板單元遠離其他冷卻單元的板單元而配置。
本發(fā)明的其他形態(tài)為控制方法。該方法為具備多個能夠獨立控制的冷卻單元且配置于將排氣對象容積連接于真空泵的排氣流路的冷阱的控制方法,其中各冷卻單元包含:露出于排氣流路而配置的板單元;及熱連接于板單元并對板單元進行冷卻制冷機。各冷卻單元的板單元遠離其他冷卻單元的板單元而配置。該控制方法包含:在通常運行模式與再生模式之間切換各冷卻單元的控制模式的步驟,其中,通常運行模式使從排氣對象容積通過排氣流路而來到的氣體凍結(jié)在板單元的表面來捕捉,再生模式使凍結(jié)在板單元的表面的氣體氣化并通過真空泵向外部排出;及當多個冷卻單元中的一部分冷卻單元成為通常運行模式時,將多個冷卻單元中的另一部分冷卻單元設為再生模式的步驟。
另外,以上的構(gòu)成要件的任意組合、或本發(fā)明的構(gòu)成要件或表現(xiàn)在裝置、方法、系統(tǒng)、計算機程序、儲存計算機程序的記錄介質(zhì)等之間的相互置換,也作為本發(fā)明的形態(tài)而有效。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明,能夠提供一種能夠連續(xù)運行的冷阱及其控制方法。
附圖說明
圖1是示意地表示具備實施方式所涉及的冷阱的真空排氣系統(tǒng)的圖。
圖2是圖1的冷阱的仰視圖。
圖3是表示圖1的第1冷卻單元、第2冷卻單元及渦輪分子泵的動作狀態(tài)的轉(zhuǎn)變的時間圖。
圖4是示意地表示第1變形例所涉及的冷阱的圖。
圖5是第2變形例所涉及的冷阱的仰視圖。
圖中:10-冷阱,12-渦輪分子泵,14-排氣流路,16-真空腔室,18-閘閥,20-第1冷卻單元,22-第2冷卻單元,32-控制部,34-間隙,62-冷阱,68-冷阱。
具體實施方式
以下,對于各附圖所示的相同或同等的構(gòu)成要件、部件、處理,附加相同的符號,并適當省略重復的說明。并且,為了便于理解,將各附圖中的部件的尺寸適當?shù)財U大、縮小來表示。并且,各附圖中在說明實施方式的基礎上,對一部分不重要的部件省略表示。
實施方式所涉及的冷阱使用多個制冷機。冷阱的低溫板按每個制冷機被分割。被分割的各板單元遠離其他任何板單元而配置。由此,能夠獨立地再生各板單元,所以能夠?qū)崿F(xiàn)冷阱的連續(xù)運行。其結(jié)果,利用這種冷阱的生產(chǎn)裝置的生產(chǎn)率提高。
冷阱例如用于在真空環(huán)境中對物體進行處理的真空處理裝置的真空腔室的真空排氣。真空處理裝置例如為在離子注入裝置或濺射裝置等半導體制造工序中使用的裝置。近幾年,對應于液晶顯示器或有機EL(Electro-Luminescence)顯示器等的大型化,正在推進這些真空處理裝置的大型化。若增大真空處理裝置的真空腔室則使用具有更高的排氣能力的更大型的冷阱的情況變得較多。
大型冷阱中,通常通過使用多個制冷機來得到冷卻較大低溫板所需的高冷卻能力。在此,若在這種大型冷阱中應用實施方式所涉及的技術(shù)思想,則除了得到高冷卻能力的目的之外,還能夠?qū)崿F(xiàn)為了冷阱的連續(xù)運行的目的而使用多個制冷機。因此,實施方式所涉及的技術(shù)思想能夠適當?shù)貞糜诒容^大型的冷阱。
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