[發明專利]YAG晶體的清理方法

無效

• 申請號: 201310030370.5
• 申請日: 2013-01-25
• 公開（公告）號: CN103071656A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 萬文;萬黎明
• 申請（專利權）人: 安徽環巢光電科技有限公司
• 主分類號: B08B11/00
• 分類號: B08B11/00;B08B7/00
• 代理公司: 安徽匯樸律師事務所 34116
• 代理人: 丁瑞瑞

技術領域

本發明涉及一種清理方法，尤其是YAG晶體的清理方法。

背景技術

YAG晶體是一種優秀的Nd和Yb激光被動Q?開關材料，由于它在0.8～1.2mm范圍內吸收穩定，YAG基質晶體導熱率高，可高重頻工作晶體被動Q開關，應用廣泛。

YAG晶體機械光學加工完成，要及時清潔晶體加工過程中留下的殘留物。殘留物在機械運動中組合形成了凝膠狀，隨著晶體加工時間延長慢慢積累附著在晶體側面。晶體側面是精磨面，相對拋光面顯得很粗糙，因此殘留物對晶體的附著力很大。一般選用超聲波清洗或手洗，超聲波清洗方便，資金成本大，固化物很難去掉，還是要用清洗劑清洗。手工清洗，工作效率低，容易造成劃傷通光平面，二次污染嚴重，要反復再清洗。造成晶體器件殘留物清洗難度主要是，凝膠狀殘留物的附著力，結痂后就更難去除。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種YAG晶體的清理方法，能有效去除YAG晶體表面的殘留物。

本發明是通過以下技術方案來實現的。

一種YAG晶體的清理方法，步驟包括：

（1）在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片50%-60%，酒精25%-30%、白灰粉10%-20%；

（2）將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；

（3）反復步驟（2）3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；

（4）將上述YAG晶體放入爐中在150°C-200°C下加溫1-1.5小時取出；

（5）將上述YAG晶體用水清洗；

（6）將上述YAG晶體烘干。

進一步地，上述步驟（1）中，先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態后，再加入白灰粉均勻攪拌。

進一步地，上述步驟（4）中，上述爐為馬弗爐。

進一步地，上述步驟（5）中，使用去離子水清洗上述YAG晶體。

進一步地，上述步驟（5）中，使用去離子水清洗后，再用清洗液進行清洗。

本發明的有益效果：

選用本發明的方法進行清洗，附著在晶體器件的有機物在高溫下燃燒干凈，無機物和晶體器件被有機物隔離，高溫作用下自動脫離不留字跡。工藝簡單，加工方便快捷，成本低，收益提高15%?-20%。

具體實施方式

下面根據實施例對本發明作進一步詳細說明。

實施案例1：

（1）在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片50%，酒精30%、白灰粉20%；

具體是先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態后，再加入白灰粉均勻攪拌；

（2）將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；

（3）反復步驟（2）3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；

（4）將上述YAG晶體放入馬弗爐中在150°C-200°C下加溫1-1.5小時取出；

（5）將上述YAG晶體用水清洗，選用去離子水清洗上述YAG晶體，再用清洗液進行清洗；

（6）將上述YAG晶體烘干。

實施案例2：

（1）在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片60%，酒精30%、白灰粉10%；

具體是先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態后，再加入白灰粉均勻攪拌；

（2）將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；

（3）反復步驟（2）3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；

（4）將上述YAG晶體放入馬弗爐中在150°C-200°C下加溫1-1.5小時取出；

（5）將上述YAG晶體用水清洗，選用去離子水清洗上述YAG晶體，再用清洗液進行清洗；

（6）將上述YAG晶體烘干。

實施案例3：

（1）在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片55%，酒精28%、白灰粉17%；

具體是先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態后，再加入白灰粉均勻攪拌；

（2）將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；

（3）反復步驟（2）3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；

（4）將上述YAG晶體放入馬弗爐中在150°C-200°C下加溫1-1.5小時取出；