[發(fā)明專利]一種有限元溫度場(chǎng)的二次映射方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310028920.X | 申請(qǐng)日: | 2013-01-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103279586A | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅文波;曾福明;高峰;阮劍華;馬凱;盛聰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京空間飛行器總體設(shè)計(jì)部 |
| 主分類號(hào): | G06F17/50 | 分類號(hào): | G06F17/50 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 龐靜 |
| 地址: | 100094 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 有限元 溫度場(chǎng) 二次 映射 方法 | ||
1.一種有限元溫度場(chǎng)的二次映射方法,其特征在于步驟如下:
(1)將由其它商用軟件計(jì)算得到的溫度場(chǎng)映射到建立的NASTRAN結(jié)構(gòu)分析模型上,得到一次溫度場(chǎng)映射的結(jié)構(gòu)分析模型,溫度場(chǎng)為該結(jié)構(gòu)分析模型的載荷;
(2)從上述一次溫度場(chǎng)映射的結(jié)構(gòu)分析模型中,保留BEGIN?BULK和ENDDATA關(guān)鍵字,提取節(jié)點(diǎn)位置、單元類型和節(jié)點(diǎn)編號(hào)信息、單元特性(不含復(fù)合材料層板單元特性)、節(jié)點(diǎn)溫度信息和坐標(biāo)系,生成新的文件;
(3)在步驟(2)處理后的文件中增加熱分析求解器設(shè)置以及熱分析工況設(shè)置;增加熱分析的材料特性;當(dāng)待分析對(duì)象中存在復(fù)合材料層板單元時(shí),增加單元特性,即將復(fù)合材料層板單元特性改為均質(zhì)單元特性,并將NASTRAN軟件進(jìn)行熱分析過程中不支持的單元類型修改成熱分析支持的單元類型;
(4)將步驟(3)處理后的結(jié)構(gòu)分析模型中的溫度場(chǎng)載荷修改為溫度邊界條件,得到熱分析模型;
(5)在NASTRAN軟件中求解熱分析模型,得到待分析對(duì)象完整的溫度場(chǎng),并將生成的溫度場(chǎng)轉(zhuǎn)化為NASTRAN格式的溫度場(chǎng)載荷,完成溫度場(chǎng)的二次映射。
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