[發(fā)明專利]一種納米銀圓環(huán)局域表面等離激元增強(qiáng)型發(fā)光二極管及其制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310025873.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103078031A | 公開(公告)日: | 2013-05-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬忠元;徐嶺;倪小東;江小帆;楊華烽;史勇;任圣;張小偉;李偉;徐駿;陳坤基;馮端 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L33/22 | 分類號(hào): | H01L33/22;H01L33/00 |
| 代理公司: | 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 32102 | 代理人: | 何朝旭 |
| 地址: | 210093*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 銀圓 局域 表面 離激元 增強(qiáng) 發(fā)光二極管 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
發(fā)明涉及一種硅基發(fā)光二極管,尤其是一種應(yīng)用納米銀圓環(huán)局域表面等離激元增強(qiáng)發(fā)光效率的硅基可控波長發(fā)光二極管,?同時(shí)還涉及其制備方法,屬于納米光電子器件材料技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
????提高硅基光源的光發(fā)射效率是目前實(shí)現(xiàn)單片硅基光電集成的瓶頸。理論研究表明,通過納米金屬的局域表面等離激元來提高硅基發(fā)光器件的內(nèi)量子效率有可能成為解決這一問題的有效途徑。
????近年來,?納米金屬局域表面等離激元在增強(qiáng)硅基發(fā)光器件的發(fā)光效率方面取得了突破性的進(jìn)展,?2008年韓國Seone-Ju?Park?小組報(bào)道了利用納米銀顆粒的局域表面等離激元增強(qiáng)硅量子點(diǎn)發(fā)光二極管,?在這個(gè)結(jié)構(gòu)中,金屬顆粒層被置于發(fā)光層與襯底之間,?Si量子點(diǎn)和局域表面等離子激元間的耦合增強(qiáng)了輻射復(fù)合幾率[1],?該研究小組又將類似的結(jié)構(gòu)應(yīng)用到了InGaN/GaN?量子阱發(fā)光二極管中,?使發(fā)光二極管的輸出功率提高了32%[2]。
????據(jù)申請(qǐng)人了解,到目前為止,國際上研究小組主要采用納米金屬顆粒的局域表面等離激元來增強(qiáng)的硅基發(fā)光二級(jí)管的發(fā)光效率,?但應(yīng)用納米銀圓環(huán)的表面等離激元來增強(qiáng)硅基發(fā)光二極管至今未見報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于:提出一種在室溫下應(yīng)用納米銀圓環(huán)的局域表面等離激元增強(qiáng)發(fā)光效率的可控波長的硅基發(fā)光二極管,從而滿足科技發(fā)展對(duì)光電子器件的需求。同時(shí)給出其制備方法,該方法與當(dāng)前微電子工藝相兼容,從而可以切實(shí)應(yīng)用于未來的硅基納米光電子學(xué)器件。
為了達(dá)到以下目的,本發(fā)明的納米銀圓環(huán)局域表面等離激元增強(qiáng)型發(fā)光二極管包括P型硅基底,所述P型硅基底上分布納米銀圓環(huán)陣列(其中的納米銀圓環(huán)的尺寸和位置可以控制,可稱為有序可控的納米金屬圓環(huán));所述納米銀圓環(huán)陣列被P型硅基底上沉積摻氧的a-SiNx:O薄膜發(fā)光有源層覆蓋;所述a-SiNx:H薄膜發(fā)光有源層上淀積留出窗口的電極。
本發(fā)明的納米銀圓環(huán)局域表面等離激元增強(qiáng)型發(fā)光二極管制備基本過程包括以下步驟:
步驟一、構(gòu)筑納米銀圓環(huán)
第一步、在P型硅基底上鋪設(shè)PS(聚苯乙烯)納米球的單層膜小球;
第二步、(采用電子束蒸發(fā)等技術(shù)手段)在鋪設(shè)有PS納米球的P型硅襯底上沉積納米銀薄膜;?
第三步、控制P型硅襯底的溫度在50-80℃,控制納米銀的沉積速率為0.1-0.3納米/秒,使納米銀顆粒圍繞PS納米球的環(huán)型周邊連續(xù)分布;
第四步、將上述四周被納米銀包圍的PS納米球浸泡在二氯甲烷中,再經(jīng)過丙酮和酒精的依次清洗,去除PS納米球,獲得所需的納米銀圓環(huán)陣列;
步驟二、構(gòu)筑發(fā)光有源層——在納米銀圓環(huán)陣列的表面分解硅烷和氨氣的混合氣體,淀積a-SiNx:H?薄膜,再對(duì)a-SiNx:H薄膜進(jìn)行氧化,獲得摻氧a-SiNx:O薄膜形成的發(fā)光有源層;
步驟三、構(gòu)筑薄膜電極——在摻氧a-SiNx:H薄膜形成的發(fā)光有源層上淀積電極,并留出窗口。
?
本發(fā)明使發(fā)光有源層和納米金屬圓環(huán)的有機(jī)結(jié)合,可以切實(shí)實(shí)現(xiàn)硅基局域表面等離激元增強(qiáng)的可控波長的發(fā)光二極管的制備,具有如下顯著優(yōu)點(diǎn):
1)通過選擇不同直徑尺寸的PS納米球可獲得尺寸可控的納米銀圓環(huán),為局域表面等離激元的吸收波長的調(diào)控奠定了基礎(chǔ);
2)發(fā)光有源層的可控發(fā)光波長為實(shí)現(xiàn)局域表面等離激元的共振吸收提供了保證;
3)低溫制備,工藝簡單,與半導(dǎo)體的硅工藝相兼容,便于推廣應(yīng)用;
4)原位氧化技術(shù)保證了樣品表面的清潔度。
附圖說明
????下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
圖1(a)、圖1(b)、圖1(c)和圖1(d)分別是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的各工藝過程示意圖。
圖2是圖1實(shí)施例制成的樣品剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為圖1實(shí)施例納米銀圓環(huán)制成之后的AFM圖片。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例一
本實(shí)施例的納米銀圓環(huán)局域表面等離激元增強(qiáng)型發(fā)光二極管采用圖1(a)、圖1(b)、圖1(c)和圖1(d)所示工藝過程制備。
步驟一、構(gòu)筑納米銀圓環(huán)
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