[發明專利]用于使用頻域干涉測量法進行光學成像的方法和設備

有效

• 申請號: 201310023749.3
• 申請日: 2004-09-08
• 公開（公告）號: CN103284691B
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 尹錫賢;布雷特·尤金·鮑馬;吉列爾莫·J·蒂爾尼;約翰內斯·菲茨杰拉德·德·布爾
• 申請（專利權）人: 通用醫療公司
• 主分類號: A61B5/00
• 分類號: A61B5/00;G01B9/02;G01N21/45;G01N21/47;G01J3/453
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 朱勝,鄭宗玉

1.一種設備，包括：

至少一個第一裝置，其將至少一個第一電磁輻射提供給樣品并且將至少一個第二電磁輻射提供給參考，其中由所述至少一個第一裝置提供的輻射的頻率隨時間變化；

至少一個偏振調制器裝置，被配置成對電磁輻射的偏振進行調制；

至少一個第二裝置，其以第一偏振態檢測關聯于所述至少一個第一電磁輻射的至少一個第三電磁輻射與關聯于所述至少一個第二電磁輻射的至少一個第四電磁輻射之間的第一干涉信號；以及

至少一個第三裝置，其以第二偏振態檢測所述第三和第四電磁輻射之間的第二干涉信號，其中所述第一和第二偏振態彼此不同。

2.根據權利要求1的設備，其中所述至少一個第三電磁輻射是從所述樣品返回的輻射，并且所述至少一個第四電磁輻射是從所述參考返回的輻射。

3.根據權利要求1的設備，進一步包括至少一個第四裝置，其配置成移位所述至少一個第一電磁輻射、所述至少一個第二電磁輻射、所述至少一個第三電磁輻射和所述至少一個第四電磁輻射中的至少一個的頻率。

4.根據權利要求1的設備，進一步包括至少一個第四裝置，其基于所檢測的干涉生成圖像。

5.根據權利要求4的設備，進一步包括探頭，其掃描所述樣品的橫向位置以生成掃描數據，并且其將所述掃描數據提供給所述第四裝置以便生成所述圖像。

6.根據權利要求5的設備，其中所述掃描數據包括在所述樣品上的多個橫向位置獲得的所檢測的干涉。

7.根據權利要求1的設備，其中所述參考是非反射的。

8.根據權利要求1的設備，其中所述至少一個第一裝置包括半導體增益介質，用于至少生成和放大電磁輻射之一。

9.根據權利要求1的設備，進一步包括至少一個第四裝置，其基于所檢測的干涉生成圖像，其中所述第一和第二偏振態彼此正交。

10.根據權利要求3的設備，其中至少一個第二裝置包括至少一個光電檢測器和跟隨著所述至少一個光電檢測器的至少一個電濾波器。

11.根據權利要求10的設備，其中所述至少一個電濾波器是帶通濾波器，其具有與通過頻移裝置的頻移的量值相同的中心頻率。

12.根據權利要求11的設備，其中所述電濾波器的傳輸特性在其通帶上變化。

13.根據權利要求5的設備，其中所述探頭包括旋轉接合和光纖導管。

14.根據權利要求13的設備，其中所述導管以高于每秒30轉的速度旋轉。

15.根據權利要求1的設備，其中所述至少一個第二裝置能夠檢測所述第一和第二電磁輻射中的至少一個的偏振態。

16.根據權利要求1的設備，其中所述至少一個第二裝置包括至少一個雙平衡接收器。

17.根據權利要求1的設備，其中所述至少一個第二裝置包括至少一個偏振分集接收器。

18.根據權利要求1的設備，其中所述至少一個第二裝置包括至少一個偏振分集和雙平衡接收器。

19.根據權利要求1的設備，進一步包括至少一個第四裝置，用于跟蹤至少下列之一之間的相位差：

·所述至少一個第一電磁輻射與所述至少一個第二電磁輻射，以及

·所述至少一個第三電磁輻射與所述至少一個第四電磁輻射。

20.根據權利要求1的設備，其中所述第一和第二電磁輻射中的至少一個具有中值頻率以大于每毫秒100萬億赫茲的調諧速度隨時間連續變化的譜。

21.根據權利要求20的設備，其中所述中值頻率以大于5千赫茲的重復率重復地變化。

22.根據權利要求20的設備，其中所述中值頻率在大于10萬億赫茲的范圍內變化。

23.根據權利要求20的設備，其中所述譜具有小于100吉赫的瞬時線寬。

24.根據權利要求20的設備，進一步包括具有短于5m的往返長度的激光腔。

25.根據權利要求22的設備，所述譜的調諧范圍的中心標稱地以1300nm為中心。