[發明專利]一種室溫熔鹽電沉積制備Ni-Ti表面鉭鍍層的方法無效
| 申請號： | 201310017025.8 | 申請日： | 2013-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN103074650A | 公開（公告）日： | 2013-05-01 |
| 發明（設計）人： | 徐君莉;張霞;石忠寧 | 申請（專利權）人： | 東北大學 |
| 主分類號： | C25D3/66 | 分類號： | C25D3/66 |
| 代理公司： | 沈陽東大專利代理有限公司 21109 | 代理人： | 梁焱 |
| 地址： | 110819 遼寧*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 室溫 熔鹽電 沉積 制備 ni ti 表面 鍍層 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種室溫熔鹽電沉積制備Ni-Ti表面鉭鍍層的方法，其特征在于包括以下步驟：
（1）配制電解質：在鹵化鋰或雙三氟磺酸亞胺鋰(CF3SO2)2N--Li的任意一種中添加雙三氟磺酸亞胺丁基吡咯（CF3SO2)2N-BPy或氯化丁基吡咯BPy-Cl的任意一種，再添加K2TaF7或TaCl5提供鉭源，組成電解質體系；
（2）電沉積制備鉭涂層：陽極材料為石墨或金屬鉭，陰極為Ni-Ti合金，在上述電解質的初晶溫度之上10~40℃進行電沉積，電流密度0.005~0.01A/cm2，電解3~5h，在陰極表面得到致密的鉭涂層。
2.根據權利要求1所述的一種室溫熔鹽電沉積制備Ni-Ti表面鉭鍍層的方法，其特征在于所述的鹵化鋰為LiCl或LiF。
3.根據權利要求1所述的一種室溫熔鹽電沉積制備Ni-Ti表面鉭鍍層的方法，其特征在于所述的電解質組成按質量百分比計為80~90%的雙三氟磺酸亞胺丁基吡咯（CF3SO2）2N-BPy、5~15%的雙三氟磺酸亞胺鋰?(CF3SO2)2N--Li和2~6%的K2TaF7。
4.根據權利要求1所述的一種室溫熔鹽電沉積制備Ni-Ti表面鉭鍍層的方法，其特征在于所述的電解質組成按質量百分比計為80~90%的氯化丁基吡咯BPy-Cl、5~15%的鹵化鋰和2~10%的TaCl5。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東北大學，未經東北大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310017025.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
