[發明專利]成膜裝置和成膜方法

有效

• 申請號: 201310016980.X
• 申請日: 2009-08-31
• 公開（公告）號: CN103088319A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 加藤壽;竹內靖;牛窪繁博;菊地宏之
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/452
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種成膜裝置，其通過在真空容器內將互相反應的至少兩種反應氣體按順序供給到基板的表面上并且執行該供給循環，從而層疊反應生成物的層而形成薄膜，該成膜裝置包括：

工作臺，其設置在上述真空容器內，用于載置基板；

第1反應氣體供給部件，用于將第1反應氣體供給到該工作臺上的基板上；

第2反應氣體供給部件，用于將第2反應氣體供給到該工作臺上的基板上；

活化部件，其為了進行上述基板上的反應生成物的改性而將被活化的處理氣體供給到上述基板上；

以及旋轉機構，用于使上述第1反應氣體供給部件、第2反應氣體供給部件以及活化部件與上述工作臺之間相對旋轉，

上述第1反應氣體供給部件、第2反應氣體供給部件和活化部件沿著工作臺的周向配置，使得通過上述相對旋轉，基板按順序處于第1反應氣體供給區域、第2反應氣體供給區域和被活化了的處理氣體的供給區域。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，

其包括：分離區域，其在上述相對旋轉的方向上位于上述第1反應氣體供給區域和第2反應氣體供給區域之間，用于分離上述第1反應氣體供給區域和第2反應氣體供給區域的氣氛；

以及排氣口，用于使上述反應氣體與擴散到上述分離區域的兩側的分離氣體排出，

上述分離區域包括：

分離氣體供給部件，用于供給分離氣體；

頂面，其位于該分離氣體供給部件的上述旋轉方向兩側，用于在頂面與工作臺之間形成用于分離氣體從該分離區域流動到處理區域側的狹窄的空間。

3.根據權利要求1所述的成膜裝置，

上述活化部件具有活化氣體注入裝置，該活化氣體注入裝置從上述基板的工作臺中心側的內緣部向工作臺外方側的外緣部延伸，在其長度方向上形成有氣體噴出口。

4.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中

上述活化部件包括：

流路形成構件，其由分隔壁劃分成氣體活化用流路和氣體導入用流路；

氣體導入件，用于將處理氣體導入到上述氣體導入用流路中；

一對電極，其沿著上述分隔壁互相平行地延伸設置在上述氣體活化用流路內，施加有用于使處理氣體活化的電力；

連通孔，其沿著電極的長度方向設置在上述分隔壁上，用于將上述氣體導入用流路內的處理氣體供給到上述氣體活化用流路中；

以及氣體噴出口，其為了噴出在上述氣體活化用流路中被活化的氣體而沿著上述電極的長度方向設置在上述氣體活化用流路上。

5.根據權利要求4所述的成膜裝置，其中，

上述一對電極分別由陶瓷覆蓋。

6.根據權利要求4所述成膜裝置，其中，

具有氣體導入噴嘴，該氣體導入噴嘴沿著上述分隔壁設置在上述氣體導入用流路內，沿長度方向穿設有氣孔，并且上述氣體導入件形成在該氣體導入噴嘴的基端側。

7.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中

上述活化部件包括：

流路形成構件，其由分隔壁劃分成氣體活化用流路和氣體導入用流路；

氣體導入件，用于將處理氣體導入到上述氣體導入用流路中；

加熱器，其沿著上述分隔壁延伸地設置在上述氣體活化用流路內，用于加熱氣體活化用流路內的處理氣體而使處理氣體活化；

連通孔，其沿著加熱器的長度方向設置在上述分隔壁上，用于將上述氣體導入用流路內的處理氣體供給到上述氣體活化用流路中；

以及氣體噴出口，其為了噴出在上述氣體活化用流路中被活化的氣體而沿著上述加熱器的長度方向設置在上述氣體活化用流路上。