[發明專利]高粘性流體的處理裝置

有效

• 申請號: 201310013476.4
• 申請日: 2013-01-15
• 公開（公告）號: CN103721592A
• 公開（公告）日: 2014-04-16
• 發明（設計）人: 井上政憲;長井圣二;金丸嘉浩
• 申請（專利權）人: 株式會社井上制作所
• 主分類號: B01F7/16
• 分類號: B01F7/16;B01F15/00;B02C17/16;B02C17/18
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 肖日松;楊楷

1.?一種高粘性流體的處理裝置，當制造固體/液體類處理材料時，不使用分散介質地將預先混捏的粘度范圍為10~2500dPa·s的高粘性流體的處理材料混捏、捏和、分散，其特征在于，具有器皿、旋轉體以及環狀微小間隙，該器皿具有處理材料的供給口和排出口，該旋轉體以能夠在器皿內旋轉的方式設置，該環狀微小間隙以成為該處理材料受到旋轉體的處理并同時流動的通路的方式設于器皿的內表面和旋轉體的外周面之間，在該旋轉體的表面，設有刻紋。

2.?根據權利要求1所述的高粘性流體的處理裝置，其特征在于，所述旋轉體形成為剖面圓形的筒狀體，通過實施滾花加工而將所述刻紋形成于旋轉體的表面。

3.?根據權利要求1所述的高粘性流體的處理裝置，其特征在于，所述旋轉體構成為筒狀體，該筒狀體在外周面沿圓周方向隔開間隔而設置槽部，并形成沿長度方向延伸的帶狀突起，通過實施滾花加工而將所述刻紋形成于旋轉體的帶狀突起的表面。

4.?根據權利要求1~3中的任一項所述的高粘性流體的處理裝置，其特征在于，所述旋轉體的表面的粗化率為1.05~2.35。

5.?根據權利要求1~4中的任一項所述的高粘性流體的處理裝置，其特征在于，所述環狀微小間隙為1.0~10mm。

6.?根據權利要求1~5中的任一項所述的高粘性流體的處理裝置，其特征在于，所述旋轉體的圓周速度為3~30m/sec。