[發(fā)明專利]紅外光學(xué)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310010463.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103064185A | 公開(公告)日: | 2013-04-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 叢海佳;陳剛義;孫永雪;張愛紅;陳守謙;范志剛;胡海力 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02B27/00 | 分類號(hào): | G02B27/00;G02B27/10;G02B3/02;G02B1/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 150000 黑龍*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紅外 光學(xué)系統(tǒng) | ||
1.一種紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述的紅外光學(xué)系統(tǒng)采用折射二次成像的結(jié)構(gòu)形式,從物面到像面依次同軸設(shè)置有整流罩(1)、第一透鏡組(2)、棱鏡(3)、第二透鏡組(4)和紅外成像探測(cè)器(5),無窮遠(yuǎn)目標(biāo)首先經(jīng)過整流罩(1)后照射到第一透鏡組(2),經(jīng)過棱鏡(3)后得到一次像,然后經(jīng)過第二透鏡組(4)透射成像到紅外成像探測(cè)器(5)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述的整流罩(1)為平窗。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述紅外光學(xué)系統(tǒng)的工作作用距離大于等于15km;溫度范圍為-40℃~60℃;工作波段為3~5μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述第一透鏡組(2)包括第一正透鏡(2-1)、第一負(fù)透鏡(2-2);所述棱鏡(3)為分光棱鏡;所述第二透鏡組(4)包括第二負(fù)透鏡(4-1)、第二正透鏡(4-2)、第三正透鏡(4-3)、第三負(fù)透鏡(4-4)、第四正透鏡(4-5);所述紅外成像探測(cè)器(5)包括探測(cè)窗口(5-1)、冷光闌(5-2)、紅外成像焦平面(5-3)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述整流罩(1)、第一正透鏡(2-1)、第一負(fù)透鏡(2-2)、棱鏡(3)、第二負(fù)透鏡(4-1)、第二正透鏡(4-2)、第三正透鏡(4-3)、第三負(fù)透鏡(4-4)、第四正透鏡(4-5)的材料依次為藍(lán)寶石、硒化鋅、氟化鈣、硒化鋅、鍺、硫化鋅、硅、鍺、硅。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述第二正透鏡(4-2)的兩表面至少有一面是非球面。
7.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述第三負(fù)透鏡(4-4)的兩表面至少有一面是非球面。
8.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述第四正透鏡(4-5)的兩表面至少有一面是衍射面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的高精度小型化紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述紅外探測(cè)器(5)是小像元制冷型的焦平面陣列探測(cè)器。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高精度小型化紅外光學(xué)系統(tǒng),其特征在于所述冷光闌(5-2)作為紅外光學(xué)系統(tǒng)的孔徑光闌。
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