[發(fā)明專利]成膜方法和成膜裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280077793.6 | 申請日: | 2012-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN104870683B | 公開(公告)日: | 2018-08-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吉田隆;松本昌宏;谷典明;池田進;久保昌司 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社愛發(fā)科 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 杜麗利 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 方法 裝置 | ||
成膜方法是在成膜于被處理基板的包含無機物的無機層3上形成包含含氟樹脂的有機層的成膜方法,在形成無機層時,進行使用了水蒸汽作為反應(yīng)性氣體的反應(yīng)性濺射以在被處理基板上形成無機層,接下來,在無機層上形成有機層。成膜裝置能夠?qū)嵤┰摮赡し椒ā?/p>
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及成膜方法和成膜裝置。
背景技術(shù)
現(xiàn)在,對于移動終端等各種終端,多使用人體直接接觸面板表面進行操作的觸摸面板。該觸摸面板的表面由于人體直接接觸面板表面而因此容易損傷、附著污垢,因此設(shè)置了防污層(有機層)。
作為防污層,多使用了氟系樹脂。作為包含這樣的氟系樹脂的膜的形成方法,已知真空蒸鍍法(例如參照專利文獻1)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1:特開2010-106344號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
根據(jù)專利文獻1,采用真空蒸鍍法,能夠高效率地形成膜質(zhì)優(yōu)異的膜。但是,防污層與其下層之間的密合性,有時隨著使用次數(shù)增多,即接觸次數(shù)增多而降低。
因此,本發(fā)明的課題在于解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問題,提供即使使用次數(shù)增多,與成膜的包含含氟樹脂的有機層的密合性也高的膜的成膜方法和成膜裝置。
用于解決課題的方法
本發(fā)明的成膜方法是在成膜于被處理基板的包含無機物的無機層上形成包含含氟樹脂的有機層的成膜方法,其特征在于,形成上述無機層時,進行使用了水蒸汽作為反應(yīng)性氣體的反應(yīng)性濺射以在被處理基板上形成無機層,接下來,在該無機層上形成上述有機層。
本發(fā)明中形成無機層時,能夠通過進行使用了水蒸汽作為反應(yīng)性氣體的反應(yīng)性濺射在被處理基板上形成無機層,從而形成與有機層的密合性高的膜。
上述無機層優(yōu)選為包含選自Si、Al、Ta、Nb、Ti、Zr、Sn、Zn、Mg和In中的至少1種的層。通過包含這些中的任一種,能夠使所述層與有機層的密合性為優(yōu)選的密合性。
此外,優(yōu)選地,將2個以上的無機膜層疊而形成上述無機層,該無機膜中,至少最上層通過進行使用了水蒸汽作為反應(yīng)性氣體的反應(yīng)性濺射而形成。即使是由多個層組成的無機層,通過進行使用了水蒸汽作為反應(yīng)性氣體的反應(yīng)性濺射而形成最上層,從而能夠形成與有機層的密合性好的無機層。
優(yōu)選地,進行了使用水蒸汽作為反應(yīng)性氣體的反應(yīng)性濺射后,進行使用了水蒸汽的等離子體處理而形成上述無機層。即使這樣地構(gòu)成,也能夠同樣地形成與有機層的密合性好的無機層。
本發(fā)明的成膜裝置是具備下述的成膜裝置:具備在被處理基板上形成無機層的無機層形成設(shè)備的無機層形成室、具備形成包含含氟樹脂的有機層的有機層形成設(shè)備的有機層形成室,其特征在于,上述無機層形成設(shè)備包含向無機層形成室內(nèi)導(dǎo)入水蒸汽的水蒸汽導(dǎo)入設(shè)備、濺射靶和對該濺射靶施加電壓的電壓施加設(shè)備,上述無機層形成室中,通過上述水蒸汽導(dǎo)入設(shè)備將水蒸汽導(dǎo)入無機層形成室內(nèi),通過上述電壓施加設(shè)備施加電壓,生成等離子體,在上述被處理基板上形成無機層,然后,通過上述有機層形成設(shè)備將上述有機層形成于形成了上述無機層的被處理基板。本發(fā)明的成膜裝置中,通過利用水蒸汽導(dǎo)入設(shè)備導(dǎo)入水蒸汽作為反應(yīng)性氣體,由此形成無機層,從而能夠形成與有機層的密合性高的層。
作為本發(fā)明的優(yōu)選的實施方式,可列舉上述無機層形成室與上述有機層形成室各自具備真空排氣設(shè)備,同時被依次串聯(lián)地配置。
此外,作為形成多層層疊的無機層的情形下優(yōu)選的實施方式,可列舉在上述成膜裝置的中央設(shè)置作為將被處理基板設(shè)置于其表面的上述搬運設(shè)備的轉(zhuǎn)鼓,同時在該轉(zhuǎn)鼓的周圍劃分并設(shè)置有上述無機層形成室和上述有機層形成室。
發(fā)明的效果
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





