[發(fā)明專利]阻氣膜和阻氣膜的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280053719.0
• 申請日: 2012-10-12
• 公開（公告）號: CN104023971A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 永繩智史;鈴木悠太
• 申請（專利權(quán)）人: 琳得科株式會社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;C23C14/48
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 金世煜;苗堃

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及阻氣膜和阻氣膜的制造方法。尤其涉及具有優(yōu)異的阻氣性的阻氣膜及這種阻氣膜的制造方法。

背景技術(shù)

以往，提出了一種作為有機(jī)EL元件用玻璃基板的代替品的、以具有優(yōu)異的阻氣性且制造時間短為特征的阻氣膜的制造方法等(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

更具體而言，一種阻氣膜的制造方法等，其特征在于，對在基材上的至少一面涂布含有全氫聚硅氮烷的液體并將其加熱干燥而成的聚硅氮烷膜實施常壓等離子體處理或真空等離子體處理，形成作為水蒸氣阻擋性的指標(biāo)的WVTR為1g/(m²·天)以下且厚度0.01～5μm的阻氣膜。

另外，提出了作為適用于有機(jī)光電轉(zhuǎn)換元件用樹脂基材的、具備具有極高阻氣性的硅氧化物薄膜的阻氣膜的制造方法(例如，參照專利文獻(xiàn)2)。

更具體而言，一種阻氣膜的制造方法，其特征在于，在基材上的至少一面涂布含有硅的液體，在20～120℃干燥形成硅薄膜后，利用使用了有機(jī)硅化合物和含有氧的反應(yīng)性氣體的等離子體CVD法，在硅薄膜上形成硅氧化物薄膜。

另外，提出了阻氣性不降低且透明性優(yōu)異的具備含碳氧化硅膜的阻氣膜(例如，參照專利文獻(xiàn)3)。

更具體而言，一種阻氣膜，其特征在于，在基材膜上的至少一面形成膜厚為5～300nm的含碳氧化硅膜，含碳氧化硅膜的碳原子(C)與硅原子(Si)的組成比(C/Si)為大于0且小于等于1的范圍，并且著色度(YI)為1.0～5.0的范圍。

進(jìn)而，為了提供透射率和色味優(yōu)異的阻氣膜，提出了具備硅量、氧量以及氮量不同的區(qū)域A、B、C的阻氣膜及其制造方法(例如，參照專利文獻(xiàn)4)。

更具體而言，一種阻氣膜，是包含氧量多于氮量的區(qū)域A和氮量多于氧量的區(qū)域B而且在這些區(qū)域A和區(qū)域B之間包含區(qū)域A的氧量緩慢減少的同時氮量朝向區(qū)域B緩慢增加的區(qū)域C而成的阻氣膜，在基材膜上朝向表面，按區(qū)域ACB、區(qū)域BCA、或區(qū)域ACBCA的順序配置各區(qū)域。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2007－237588號公報

專利文獻(xiàn)2：日本特開2011－26645號公報

專利文獻(xiàn)3：日本特開2010－158832號公報

專利文獻(xiàn)4：日本特開2009－196155號公報

發(fā)明內(nèi)容

然而，根據(jù)專利文獻(xiàn)1公開的阻氣膜的制造方法，雖然對聚硅氮烷膜進(jìn)行常壓等離子體處理或真空等離子體處理，但由于完全沒考慮到等離子體處理后的阻擋層，因此可發(fā)現(xiàn)阻氣性仍低或阻氣性不均等問題。

另外，根據(jù)專利文獻(xiàn)2公開的阻氣膜的制造方法，必須利用等離子體CVD法在規(guī)定的硅薄膜(聚硅氮烷膜等)上形成更多種類的硅氧化物薄膜。

因此，能發(fā)現(xiàn)以下問題：難以使阻氣膜薄膜化、連續(xù)制膜，或在作為基底的硅薄膜和利用等離子體CVD法而成的硅氧化物薄膜之間密合性不足。

另外，在專利文獻(xiàn)3中公開的阻氣膜及其制造方法中，可發(fā)現(xiàn)以下問題：阻氣性仍低、阻氣性不均、并且耐久性等不足。

另外，對于專利文獻(xiàn)4公開的阻氣膜及其制造方法，由于在多層結(jié)構(gòu)的局部包含氮量多于氧量的區(qū)域B，所以可發(fā)現(xiàn)以下問題：得到的阻氣膜著色、其透明性容易降低。

另外，由于反復(fù)進(jìn)行多個成膜步驟形成各區(qū)域A～C，所以可發(fā)現(xiàn)以下問題：制造工序復(fù)雜、生產(chǎn)率差、并且阻氣性仍不充分。

因此，本發(fā)明的發(fā)明人等進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)對于在基材上形成阻氣層而成的阻氣膜，通過朝向該阻氣層地具有至少含有氧原子、硅原子、氮原子且利用XPS測定而測得的組成不同的多個區(qū)域，從而得到阻氣性極其優(yōu)異且不易著色的透明性優(yōu)異的阻氣膜，由此完成了本發(fā)明。

即，本發(fā)明的目的在于提供阻氣性優(yōu)異的阻氣膜及能夠有效地得到這種阻氣膜的阻氣膜制造方法。

根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種阻氣膜，從而能夠解決現(xiàn)有問題點。其特征在于，是在基材上形成阻氣層而成的阻氣膜，阻氣層至少含有氧原子、硅原子、氮原子，將阻氣層的與基材相接的面作為基材側(cè)、將其相反面作為表面?zhèn)葧r，從表面?zhèn)瘸蚧膫?cè)包含利用XPS測定而測得的氮量、硅量以及氧量成為以下順序的區(qū)域:

按氧量＞硅量＞氮量的順序形成的第1區(qū)域，

按硅量＞氧量＞氮量的順序形成的第2區(qū)域，和

按氧量＞硅量＞氮量的順序形成的第3區(qū)域。

即，根據(jù)本發(fā)明，不具有氮量多于氧量的區(qū)域而包含利用XPS測定而測得的阻氣層中的氮量、硅量以及氧量滿足規(guī)定關(guān)系的第1區(qū)域～第3區(qū)域，由此能夠得到阻氣性優(yōu)異的阻氣膜。