[發明專利]用于控制物體質量的系統和方法

有效

• 申請號: 201280050168.2
• 申請日: 2012-10-16
• 公開（公告）號: CN104114992B
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 胡貝特·瓦堯姆
• 申請（專利權）人: 歐洲航空防務與空間公司EADS法國
• 主分類號: G01M11/00
• 分類號: G01M11/00;G01M13/00;G01B15/04;G01G11/00;G01N23/046
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王萍;李春暉

1.一種用于控制物體的質量的系統，其特征在于，包括：

-安全室(3)，其包括將待檢查的所述物體引入所述室中所通過的入口和至少一個出口，所述室具有檢查區域(5)；

-運輸裝置，其用于將待檢查的所述物體輸送到所述檢查區域(5)中并且確保該物體通過所述至少一個出口而被排出；

-稱量裝置(7)，其被置于所述運輸裝置之下，用于稱量所述檢查區域(5)中的所述物體；

-用于無接觸地測量所述檢查區域(5)中的所述物體的尺寸的組件，其包括用于通過光圖案投影并由立體視覺系統(8，9)檢測來進行測量的組件；

-用于通過激光束分析所述檢查區域(5)中的所述物體的結構的組件；并且

-所述安全室(3)是以分別對于工作中的所述激光束的波長而言不透明的材料來被實現的，以預防任何的輻射泄漏，

其中，用于分析所述檢查區域(5)中的所述物體的結構的所述組件包括：

-第一激光源(10)，其用于生成第一激光束用以在所述待檢查物體中產生超聲波，

-第二激光源(11)，其用于生成第二激光束用以對待檢查的所述物體進行照明；

-干涉儀(12)，其用于測量由待檢查的所述物體反射的第二激光束的一部分，其中所述干涉儀(12)能夠生成與該測量相關的電信號；

-所述激光源(10，11)和所述干涉儀(12)光耦合到被置于所述室(3)中的光測量頭(13)，所述測量頭(13)包括光掃描器,

并且其中，所述稱量裝置(7)響應于所述物體的稱量而發送信號，用于無接觸地測量所述物體的尺寸的所述組件發送用于所述物體的尺寸測量的信號，以及用于分析所述物體的結構的所述組件發送與所述物體的結構分析測量相關的信號，所述系統包括連接到記錄介質的中央單元，所述記錄介質包括被預先記錄在所述記錄介質上用以定義所述物體的參考參數的至少一個信息文件，所述中央單元接收所述信號中的每一個以將所述信號與所述參考參數進行比較。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，包括用于當待檢查的所述物體被置于所述檢查區域(5)中時停止所述運輸裝置的存在檢測器。

3.如權利要求1或2所述的系統，其特征在于，包括用于當所述物體的質量評估揭示一個或更多個缺陷時標記所述物體的裝置。

4.如權利要求1或2所述的系統，其特征在于，還包括用于控制所述物體的表面外觀的組件和/或光學相干斷層成像裝置。

5.一種用于生產物體的設備，其配備有如權利要求1至4中任一項所述的用于控制所述物體的質量的系統。

6.一種用于評估物體質量的方法，其中，將所述物體置于檢查區域(5)中，然后對于被置于所述檢查區域(5)中的所述物體至少執行以下步驟中的第一個步驟：

a)通過被置于用于將所述物體輸送到所述檢查區域(5)的運輸裝置之下的稱量裝置來稱量所述物體，

b)利用用于無接觸地測量尺寸的組件來無接觸地測量所述檢查區域(5)中的所述物體的尺寸，所述組件包括用于通過光圖案投影并由立體視覺系統(8，9)檢測來進行測量的組件，

c)對所述物體進行結構分析，其特征在于，

-在這些步驟中的每個步驟結束時，將獲得的結果與一個或更多個參考測量結果進行比較，如果它們在考慮了測量不確定度的情況下相對應，則進行下一個步驟，如果它們是不同的，則丟棄所述物體，

其中，在分析所述物體的結構的步驟中，發送第一激光束到所述物體上以在待檢查的所述物體中產生超聲波，利用第二激光束對所述物體進行照明以使得所述第二激光束的一部分被所述物體反射，并且通過干涉測量法來測量所述第二激光束的被反射的部分，所有所述激光束都通過同一個光學讀取頭，

并且其中，稱量所述物體的步驟包括響應于所述物體的稱量而發送信號，無接觸地測量所述檢查區域中的所述物體的尺寸的步驟包括發送用于所述物體的尺寸測量的信號，以及對所述物體進行結構分析的步驟包括發送與所述物體的結構分析測量相關的信號，所述方法還包括將所述信號中的每一個與所述參考測量結果進行比較。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，還控制所述物體的表面外觀。