[發(fā)明專利]逐層構(gòu)造模型的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280042227.1
• 申請日: 2012-08-29
• 公開（公告）號: CN103764376A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發(fā)明（設計）人: 安德烈斯·多米尼克·哈特曼;英戈·埃德雷爾
• 申請（專利權(quán)）人: 沃克斯艾捷特股份有限公司
• 主分類號: B29C67/00
• 分類號: B29C67/00
• 代理公司: 北京思益華倫專利代理事務所(普通合伙) 11418
• 代理人: 趙飛;鄭雪娜

1.一種用于逐層構(gòu)造模型的裝置，其中，提供用于構(gòu)造模型的區(qū)域和用于將材料涂覆到所述區(qū)域的材料涂覆裝置，所述區(qū)域優(yōu)選為制造平臺，所述材料涂覆裝置被布置成可在所述區(qū)域上移動，其中，所述材料涂覆裝置如此布置為門型架，使得其通過布置在所述區(qū)域相對側(cè)上的至少兩個線性導向裝置而可在所述區(qū)域上移動，并且其如此圍繞所述區(qū)域布置，使得所述門型架形成有在所述區(qū)域的側(cè)向延伸的至少兩個分段，其特征在于，提供了用于將其他材料涂覆到所述區(qū)域的至少一個其他材料涂覆裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述其他材料涂覆裝置也提供在所述門型架上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述其他材料涂覆裝置提供在其他門型架上。

4.根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的裝置，其特征在于，在所述門型架之一上或在另外其他門型架上提供光源、輻射源和/或熱源。

5.根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的裝置，其特征在于，所述其他門型架或所有門型架與所述線性導向裝置接合。

6.根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的裝置，其特征在于，所述其他門型架與其他線性導向裝置接合。

7.根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的裝置，其特征在于，所述材料涂覆裝置包括顆粒材料涂覆裝置、和/或打印頭、和/或擠壓器、和/或薄膜涂覆裝置（folienbeschichter）。

8.根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的裝置，其特征在于，基本上垂直于所述區(qū)域可移動地布置至少一個所述材料涂覆裝置、光源、輻射源和/或熱源。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述材料涂覆裝置、光源、輻射源和/或熱源的移動可以沿著側(cè)向門型架件進行。

10.根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的裝置，其特征在于，所述門型架可以互相從下方或從上方駛過。

11.根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的裝置，其特征在于，此外，至少一個外圍設備布置在所述裝置中，并且，無論結(jié)構(gòu)高度如何，其能夠被接近.

12.一種用于逐層構(gòu)造模型的方法，其中，提供用于構(gòu)造模型的區(qū)域和用于將材料涂覆到所述區(qū)域的材料涂覆裝置，所述區(qū)域優(yōu)選為制造平臺，所述材料涂覆裝置被布置成可在所述區(qū)域上移動，其中，所屬材料涂覆裝置如此布置為門型架，使得其通過布置在所述區(qū)域相對側(cè)上的至少兩個線性導向裝置而可在所述區(qū)域上移動，并且其如此圍繞所述區(qū)域布置，使得所述門型架形成有在所述區(qū)域的側(cè)向延伸的至少兩個分段，其特征在于，至少一個其他材料涂覆裝置根據(jù)具體情況而提供到其他門型架上，并且將其他材料涂覆到所述區(qū)域。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，至少兩個門型架在處理步驟期間或之后，可以互相從下方或從上方駛過。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的方法，其特征在于，所述材料涂覆裝置也基本上垂直于平面移動。

15.根據(jù)權(quán)利要求12至14之一所述的方法，其特征在于，多個獨立的門型架同時執(zhí)行不同的構(gòu)造處理。

16.根據(jù)權(quán)利要求12至15之一所述的方法，其特征在于，多個獨立的門型架同時執(zhí)行一個共同的構(gòu)造處理。