[發(fā)明專利]輻射源和光刻設(shè)備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280040912.0
• 申請日: 2012-07-27
• 公開（公告）號: CN103748968A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: C·華格納;E·魯普斯特拉
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H05G2/00
• 分類號: H05G2/00;G03F7/20;H01S3/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種輻射源，包括：

噴嘴，配置成沿朝向等離子體形成位置的軌跡引導(dǎo)燃料液滴的束流；和

激光器，配置成將激光輻射，例如具有大約9μm至大約11μm之間的波長的輻射，引導(dǎo)至等離子體形成位置以在等離子體形成位置處將燃料液滴轉(zhuǎn)化為等離子體，

其中，激光器包括放大器和光學(xué)元件，所述光學(xué)元件配置成限定通過放大器的輻射的發(fā)散束路徑。

2.如權(quán)利要求1所述的輻射源，其中激光器配置成在從放大器發(fā)射的光子沿發(fā)散束路徑被燃料液滴反射時產(chǎn)生激光輻射脈沖。

3.如權(quán)利要求2所述的輻射源，其中激光器包括腔反射鏡，所述腔反射鏡布置成反射由燃料液滴反射的光子，并且光學(xué)元件設(shè)置在放大器和腔反射鏡之間。

4.如前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中放大器包括多個放大器腔室。

5.如權(quán)利要求4所述的輻射源，其中光學(xué)元件設(shè)置在腔反射鏡和最靠近腔反射鏡的放大器腔室之間。

6.如前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中光學(xué)元件包括相位光柵。

7.如權(quán)利要求1-5中任一項所述的輻射源，其中光學(xué)元件包括散射板。

8.如前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中輻射源還包括收集器反射鏡，所述收集器反射鏡配置成收集和聚焦由燃料液滴形成的等離子體所產(chǎn)生的輻射。

9.如前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中通過燃料液滴轉(zhuǎn)化而產(chǎn)生的等離子體是用于發(fā)射EUV輻射的等離子體。

10.如前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中噴嘴配置成以單液滴形式發(fā)射燃料液滴。

11.如權(quán)利要求1-9中任一項所述的輻射源，其中噴嘴配置成以燃料云形式發(fā)射燃料液滴，所述燃料云隨后結(jié)合為液滴。

12.如前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中燃料液滴包括氙、鋰或錫，或由氙、鋰或錫構(gòu)成。

13.如前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中激光器是CO₂激光器。

14.一種光刻設(shè)備，包括：

前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，

照射系統(tǒng)，配置成調(diào)節(jié)輻射束，

支撐結(jié)構(gòu)，構(gòu)造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面上將圖案賦予輻射束以形成圖案化的輻射束，

襯底臺，構(gòu)造成保持襯底，和

投影系統(tǒng)，配置成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。

15.一種方法，包括：

沿朝向等離子體形成位置的軌跡從噴嘴發(fā)射燃料液滴的束流和使用激光器將激光輻射引導(dǎo)至等離子體形成位置以在等離子體形成位置處將燃料液滴轉(zhuǎn)化為等離子體，其中激光器包括放大器和光學(xué)元件；和

使用光學(xué)元件限定通過放大器的輻射的發(fā)散束路徑。