[發(fā)明專(zhuān)利]用于OLED封裝的屏蔽管理系統(tǒng)和方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280033772.4
• 申請(qǐng)日: 2012-06-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103703584B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-10-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 栗田真一;B·S·金
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L51/56
• 分類(lèi)號(hào): H01L51/56;H05B33/04
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó)

1.一種封裝有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)器件的方法，包括：

將第一屏蔽置于基板上，所述第一屏蔽具有穿過(guò)所述第一屏蔽形成的開(kāi)口，所述基板具有一或更多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述第一屏蔽具有第一尺寸，其中所述基板設(shè)置于基板支撐件上，所述基板支撐件具有形成于所述基板支撐件中的開(kāi)口；

用所述第一屏蔽，將第一封裝層沉積于設(shè)置在所述基板上的所述OLED器件之上，其中在第一工藝腔室中將所述第一屏蔽置于所述基板之上，所述第一工藝腔室具有遮蔽框和設(shè)置在所述第一工藝腔室外部的對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)，且在所述第一工藝腔室中將所述第一封裝層沉積于設(shè)置在所述基板之上的所述OLED器件之上，并且其中所述對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)可操作以將一光線照射通過(guò)形成于所述基板支撐件中的所述開(kāi)口并照射在所述遮蔽框上的一位置處，并且所述對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)測(cè)量從所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記至穿過(guò)所述第一屏蔽形成的所述開(kāi)口的邊界的距離；

將第二屏蔽置于所述基板上，所述第二屏蔽具有第二尺寸；

用所述第二屏蔽，將緩沖層沉積于所述第一封裝層和所述OLED器件之上；

將第三屏蔽置于所述基板上，所述第三屏蔽具有與所述第一尺寸相等的尺寸；

用所述第三屏蔽，將第二封裝層沉積于所述緩沖層、所述第一封裝層和所述OLED器件之上。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一封裝層和所述第二封裝層包括硅氮化物。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二尺寸與所述第一尺寸不同。

4.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二尺寸與所述第一尺寸相同。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二尺寸與所述第一尺寸相同。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一屏蔽和所述第三屏蔽包括實(shí)質(zhì)上相同的屏蔽圖案。

7.一種封裝有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)器件的方法，包括：

將基板和第一屏蔽接收至第一傳輸腔室中，所述基板具有一或更多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述第一屏蔽具有第一尺寸和穿過(guò)所述第一屏蔽形成的開(kāi)口；

在第一工藝腔室中將所述第一屏蔽置于所述基板之上，所述基板設(shè)置于第一基板支撐件上，所述第一基板支撐件具有形成于所述第一基板支撐件中的開(kāi)口，所述第一工藝腔室具有第一遮蔽框和設(shè)置在所述第一工藝腔室外部的第一對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)，其中所述第一對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)可操作以將一光線照射通過(guò)形成于所述第一基板支撐件中的所述開(kāi)口并照射在所述第一遮蔽框上的一位置處，并且所述第一對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)測(cè)量從所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記至穿過(guò)所述第一屏蔽形成的所述開(kāi)口的邊界的距離；

用所述第一屏蔽將第一封裝層沉積到設(shè)置在所述基板上的所述OLED器件之上，其中在所述第一工藝腔室中將所述第一屏蔽置于所述基板之上，且在所述第一工藝腔室中將所述第一封裝層沉積于設(shè)置在所述基板之上的所述OLED器件之上；

將所述基板和第二屏蔽接收至第二傳輸腔室中，所述第二屏蔽具有穿過(guò)所述第二屏蔽形成的開(kāi)口；

在第二工藝腔室中將所述第二屏蔽置于所述基板之上，所述基板設(shè)置于第二基板支撐件上，所述第二基板支撐件具有形成于所述第二基板支撐件中的開(kāi)口，所述第二工藝腔室具有第二遮蔽框和設(shè)置在所述第二工藝腔室外部的第二對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)，其中所述第二對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)可操作以將一光線照射通過(guò)形成于所述第二基板支撐件中的所述開(kāi)口并照射在所述第二遮蔽框上的一位置處，并且所述第二對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)測(cè)量從所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記至穿過(guò)所述第二屏蔽形成的所述開(kāi)口的邊界的距離；

在所述第二工藝腔室中用所述第二屏蔽將緩沖層沉積于所述第一封裝層和所述OLED器件之上；

將所述基板和第三屏蔽接收至第三傳輸腔室中，所述第三屏蔽具有穿過(guò)所述第三屏蔽形成的開(kāi)口，所述第三屏蔽與所述第一屏蔽具有實(shí)質(zhì)相同的屏蔽圖案：

在第三工藝腔室中將所述第三屏蔽置于所述基板之上，所述基板設(shè)置于第三基板支撐件上，所述第三基板支撐件具有形成于所述第三基板支撐件中的開(kāi)口，所述第三工藝腔室具有第三遮蔽框和設(shè)置在所述第三工藝腔室外部的第三對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)，其中所述第三對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)可操作以將一光線照射通過(guò)形成于所述第三基板支撐件中的所述開(kāi)口并照射在所述第三遮蔽框上的一位置處，并且所述第三對(duì)準(zhǔn)視覺(jué)化系統(tǒng)測(cè)量從所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記至穿過(guò)所述第三屏蔽形成的所述開(kāi)口的邊界的距離；以及

在所述第三工藝腔室中用所述第三屏蔽將第二封裝層沉積于所述緩沖層、所述第一封裝層和所述OLED器件之上。