[發明專利]電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備有效
| 申請號: | 201280026647.0 | 申請日: | 2012-05-28 |
| 公開(公告)號: | CN103562798B | 公開(公告)日: | 2016-10-12 |
| 發明(設計)人: | 高橋孝治;植松弘規;滿居隆浩;川井康裕;西田孟;小川英紀 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G5/147 | 分類號: | G03G5/147;G03G21/00 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 照相 感光 構件 處理 設備 | ||
1.一種電子照相感光構件,其包括支承體和在所述支承體上形成的感光層,其中
所述電子照相感光構件的表面包括多個凹部和除所述凹部以外的部分,各所述凹部具有深度為0.5至5μm和開口部最長徑為20至80μm,和
當在所述電子照相感光構件的表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形區域時,所述500μm×500μm正方形區域中所述凹部的面積為10000至90000μm2,且除所述凹部以外的部分中包含的平坦部的面積為80000至240000μm2。
2.根據權利要求1所述的電子照相感光構件,其中所述500μm×500μm正方形區域中所述平坦部的不能配置10μm×10μm正方形區域的狹小部分的面積的比例為不大于30%,基于所述500μm×500μm正方形區域中所述平坦部的總面積。
3.根據權利要求2所述的電子照相感光構件,其中當在所述電子照相感光構件的表面的任意50個位置中配置的各所述500μm×500μm正方形區域中測量所述狹小部分的面積的比例時,50個測量值的標準偏差為不大于5%。
4.一種電子照相感光構件,其包括支承體和在所述支承體上形成的感光層,其中
所述電子照相感光構件的表面的至少與清潔構件的接觸區域包括多個凹部和除所述凹部以外的部分,各所述凹部具有深度為0.5至5μm和開口部最長徑為20至80μm,和
當在與所述清潔構件的接觸區域的任意位置中配置500μm×500μm正方形區域時,所述500μm×500μm正方形區域中所述凹部的面積為10000至90000μm2,且除所述凹部以外的部分中包含的平坦部的面積為80000至240000μm2。
5.根據權利要求4所述的電子照相感光構件,其中所述500μm×500μm正方形區域中所述平坦部的不能配置10μm×10μm正方形區域的狹小部分的面積的比例為不大于30%,基于所述500μm×500μm正方形區域中所述平坦部的總面積。
6.根據權利要求5所述的電子照相感光構件,其中當在與所述清潔構件的接觸區域的任意50個位置中配置的各所述500μm×500μm正方形區域中測量所述狹小部分的面積的比例時,50個測量值的標準偏差為不大于5%。
7.一種處理盒,其可拆卸地安裝至電子照相設備的主體,并且一體化地支承:
根據權利要求1至6任一項所述的電子照相感光構件,和
具有與所述電子照相感光構件接觸配置的清潔構件的清潔單元。
8.一種電子照相設備,其包括:
根據權利要求1至6任一項所述的電子照相感光構件,
充電單元,
曝光單元,
顯影單元,
轉印單元,和
具有與所述電子照相感光構件接觸配置的清潔構件的清潔單元。
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