[發明專利]NdFeB系燒結磁體有效
| 申請號: | 201280021381.0 | 申請日: | 2012-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN103797549A | 公開(公告)日: | 2014-05-14 |
| 發明(設計)人: | 佐川真人;溝口徹彥 | 申請(專利權)人: | 因太金屬株式會社 |
| 主分類號: | H01F1/08 | 分類號: | H01F1/08;B22F1/00;B22F3/00;C22C33/02;H01F1/057;H01F41/02 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | ndfeb 燒結 磁體 | ||
1.一種NdFeB系燒結磁體,其特征在于,其為通過晶界擴散處理而使附著在基材表面的Dy和/或Tb擴散到該基材內部的晶界的NdFeB系燒結磁體,所述基材是通過將NdFeB系合金的粉末進行取向、燒結而制造的,以下,將“Dy和/或Tb”記為“RH”,
出現在附著有RH的面的晶界中的RH濃度Cs(wt%)與從所述附著面起深度3mm的晶界中的RH濃度Cd3(wt%)之差Cs-Cd3為20wt%以下。
2.根據權利要求1所述的NdFeB系燒結磁體,其特征在于,出現在所述附著面的晶界中的RH濃度Cs(wt%)與從所述附著面起深度1mm的晶界中的RH濃度Cd1(wt%)之差Cs-Cd1為15wt%以下。
3.根據權利要求1或2所述的NdFeB系燒結磁體,其特征在于,所述基材中的晶界三重點的、富稀土相中的富碳相的總體積相對于該富稀土相的總體積的比率為50%以下。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的NdFeB系燒結磁體,其特征在于,所述基材整體的含碳率為1000ppm以下。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的NdFeB系燒結磁體,其特征在于,構成所述基材的粒子即主相粒子的平均粒徑為4.5μm以下。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于因太金屬株式會社,未經因太金屬株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201280021381.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:插接連接器
- 下一篇:具有非對稱隱藏的防偽標記





