[發明專利]光調制器

有效

• 申請號: 201280010366.6
• 申請日: 2012-02-22
• 公開（公告）號: CN103392146A
• 公開（公告）日: 2013-11-13
• 發明（設計）人: 加藤圭;菅野慎介;清水亮;宮崎德一;一明秀樹
• 申請（專利權）人: 住友大阪水泥股份有限公司
• 主分類號: G02F1/035
• 分類號: G02F1/035;G02B6/12;G02B6/30
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 高培培;車文

1.一種光調制器，具有：基板，所述基板具有電光效應；光波導，所述光波導包括形成于所述基板的馬赫-曾德爾型光波導；調制電極，所述調制電極用于對在所述光波導中傳導的光波進行調制；以及光纖，所述光纖用于對來自所述光波導的出射光進行引導，所述光調制器的特征在于，

所述光調制器具有：

聚光構件，所述聚光構件使從所述馬赫-曾德爾型光波導射出的兩束放射光朝向一個受光元件聚光；以及

光量比調整構件，所述光量比調整構件調整所述受光元件接收的所述兩束放射光的光量比。

2.根據權利要求1所述的光調制器，其特征在于，

所述聚光構件是在加強用毛細管設置的反射構件，所述加強用毛細管用于將所述光纖與所述基板的端部連接。

3.根據權利要求1所述的光調制器，其特征在于，

所述聚光構件采用透鏡、反射鏡或者光纖中的至少一種構成。

4.根據權利要求1至3的任意一項所述的光調制器，其特征在于，

所述光量比調整構件是調整所述受光元件的配置位置的構件。

5.根據權利要求4所述的光調制器，其特征在于，

由所述聚光構件使兩束放射光構成為彼此交叉，所述受光元件配置在與所述兩束放射光交叉的交叉點偏離的位置。

6.根據權利要求5所述的光調制器，其特征在于，

所述受光元件被配置在所述兩束放射光的光路間隔成為所述受光元件的受光直徑的0.5～2倍的位置。

7.根據權利要求1至3的任意一項所述的光調制器，其特征在于，

所述光量比調整構件是光強度調整濾光器。

8.根據權利要求1至7的任意一項所述的光調制器，其特征在于，

在所述基板形成有對所述放射光進行引導的放射光用波導。

9.根據權利要求1至8的任意一項所述的光調制器，其特征在于，

所述基板的厚度在20μm以下。