[發明專利]檢查裝置及半導體裝置的制造方法

無效

• 申請號: 201280009675.1
• 申請日: 2012-02-17
• 公開（公告）號: CN103384822A
• 公開（公告）日: 2013-11-06
• 發明（設計）人: 工藤祐司
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G01N21/956
• 分類號: G01N21/956;H01L21/66
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 任默聞

1.一種檢查裝置，其特征在于，所述檢查裝置具備：

照明部，對形成有具周期性的圖案的基板，以對所述基板具有穿透性的照明光加以照明；

反射繞射光檢測部，接收所述照明光于所述圖案繞射而反射至以所述照明光照明側的反射繞射光而能輸出第1檢測信號；

穿透繞射光檢測部，接收所述照明光于所述圖案繞射而穿透至以所述照明光照明側對向的背面側的穿透繞射光而能輸出第2檢測信號；以及

狀態檢測部，根據所述第1檢測信號與所述第2檢測信號中的至少一方的信號，檢測所述圖案的狀態。

2.根據權利要求1所述的檢查裝置，其特征在于，所述狀態檢測部，根據所述第1檢測信號與所述第2檢測信號的兩方的信號檢測所述圖案的狀態。

3.根據權利要求1或2所述的檢查裝置，其特征在于，所述圖案具有從所述基板表面朝向與所述表面正交的方向的深度的圖案；

所述狀態檢測部，根據所述第1檢測信號與所述第2檢測信號中的一方的檢測信號檢測所述圖案的所述表面附近的狀態，根據另一方的檢測信號檢測所述圖案的深度方向的狀態。

4.根據權利要求3所述的檢查裝置，其特征在于，所述受光的反射繞射光的波長較所述穿透繞射光的波長短。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述狀態檢測部根據所述第1檢測信號檢測所述基板表面附近的所述圖案的狀態，根據所述第2檢測信號檢測所述圖案的深度方向的狀態。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查裝置具備根據所述穿透繞射光的方向驅動所述穿透繞射光檢測部的驅動部。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述照明光是略平行光。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述照明光包含波長0.9μm以上的紅外線。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查裝置具備選擇所述反射繞射光檢測部與所述穿透繞射光檢測部中的至少一方所受光的光的波長的波長選擇部。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查裝置進一步具備存儲部，所述存儲部將所述第1檢測信號與所述第2檢測信號中至少一方的信號與所述圖案的狀態賦予關聯后加以儲存。

11.根據權利要求1至10中任一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述穿透繞射光檢測部、所述照明部、所述基板中的至少兩個，可傾動以接收所欲次數的穿透繞射光。

12.根據權利要求7所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查裝置進一步具備保持所述基板的保持部；

所述保持部可繞與所述略平行的照明光的入射面正交的傾動軸傾動；

所述穿透繞射光檢測部、所述照明部及所述反射繞射光檢測部可繞所述傾動軸旋動。

13.根據權利要求8所述的檢查裝置，其特征在于，所述照明光包含波長1.1μm的紅外線。

14.根據權利要求1至13中任一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述照明部具有配置成可插入所述照明光的光路上的偏光板。

15.一種半導體裝置的制造方法，具有于基板表面曝光出既定圖案的動作、依據進行了所述曝光的所述圖案對所述基板表面進行蝕刻的動作、以及對進行了所述曝光或所述蝕刻而于表面形成有所述圖案的基板進行檢查的動作；

所述基板的檢查是使用權利要求1至14中任一項所述的檢查裝置進行。

16.一種檢查裝置，其特征在于，所述檢查裝置具備：

照明部，對形成有具周期性的圖案的基板，以對所述基板具有穿透性的照明光加以照明；

穿透繞射光檢測部，接收所述照明光于所述圖案繞射而穿透至以所述照明光照明側對向的背面側的穿透繞射光而能輸出檢測信號；

選擇部，可選擇所述穿透繞射光檢測部接收的穿透繞射光的繞射次數與入射條件中的至少一方；以及

狀態檢測部，根據所述檢測信號檢測所述圖案的狀態。

17.根據權利要求16所述的檢查裝置，其特征在于，所述選擇部、所述穿透繞射光檢測部、所述照明部、所述基板中的至少二個，可傾動。