[發(fā)明專利]太陽電池用濺射靶有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280007612.2 | 申請日: | 2012-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN103380230A | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 武內(nèi)朋哉 | 申請(專利權(quán))人: | 三井金屬礦業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;B23K35/26;C22C13/00;C22C28/00;C22F1/00;C22F1/16 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽電池 濺射 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種太陽電池用濺射靶,更詳細(xì)而言,涉及一種直到壽命結(jié)束為止濺射速率固定、且能夠均一成膜的太陽電池用濺射靶。
背景技術(shù)
作為薄膜太陽電池的光吸收層而被使用的銦薄膜,一般情況下是通過對銦制的濺射靶(以下,也稱為銦靶)進行濺射而被成膜的。由于銦為軟質(zhì)材料,且為熔點為156.4℃的低熔點金屬,因此,大多情況下,銦靶是通過鑄造及壓延而被制造的。
在專利文獻1中,公開了一種如下的靶的制造方法,即,在背板上形成了銦等的薄膜之后,在該薄膜上流入銦等的熔融金屬,從而使背板和靶材一體地形成。該方法為,相對于在通過鑄造等而制造了靶材之后,將靶材接合于背板上的間接鑄造法而言,被稱為直接鑄造法的方法,并且,由于能夠?qū)胁暮捅嘲鍩o間隙地接合在一起,因此,在濺射時,不會產(chǎn)生熱的不均勻性,從而形成均勻的膜。
在專利文獻2中,公開了一種太陽電池用銦靶的制造方法,其特征在于,將銦原料分?jǐn)?shù)次投入鑄模中,并去除每次所生成的熔融金屬表面的氧化銦,之后,對通過冷卻而得到的鑄塊進行表面研磨,從而得到銦靶。該制造方法也為使用了直接鑄造法的方法,并且有報告稱,對于通過該方法而得到的靶,由于熔融金屬的氧化銦的卷入量較少,因此,防止了光吸收層的透光率的降低。
但是,通過這些制造方法而制造出的現(xiàn)有的銦靶的濺射速率不夠高,難以有效成膜。在濺射靶中,希望初期濺射速率較高,且直到壽命結(jié)束為止仍保持高濺射速率。另外,當(dāng)通過現(xiàn)有的銦靶來進行濺射時,存在如下問題,即,特別是在濺射已進展到了某種程度的時間點上,所得到的膜的均質(zhì)性會降低的問題。
在先技術(shù)文獻
專利文獻
專利文件1:日本特開昭63-44820號公報
專利文件2:日本特開2010-24474號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的,其目的在于,提供一種濺射初期的濺射速率較高,且濺射速率的經(jīng)時性降低較小、而且能夠形成均質(zhì)的膜的太陽電池用濺射靶。
用于解決課題的方法
實現(xiàn)所述目的的本發(fā)明為一種太陽電池用濺射靶,其特征在于,其由靶材、背板、及對所述靶材和背板進行接合的銦-錫或者銦-鎵合金制的接合材料構(gòu)成,其中,所述靶材從如下的加工材料制造出,所述加工材料為,通過對銦制的鑄塊實施施加物理應(yīng)力的加工,以使該鑄塊的厚度成為原來的厚度的70%以下,從而得到的加工材料。
在本發(fā)明的太陽電池用濺射靶中,優(yōu)選為,所述靶材為從如下的加工材料制造出的靶材,所述加工材料為,通過對銦制的鑄塊實施施加物理應(yīng)力的加工,以使該鑄塊的厚度成為原來的厚度的50%以下,從而得到的加工材料。
在本發(fā)明的太陽電池用濺射靶中,優(yōu)選為,所述銦-錫及銦-鎵合金的熔點在140℃以下。
在本發(fā)明的太陽電池用濺射靶中,優(yōu)選為,所述銦-錫及銦-鎵合金的熔點在130℃以下。
在本發(fā)明的太陽電池用濺射靶中,優(yōu)選為,所述施加物理應(yīng)力的加工為壓延。
在本發(fā)明的太陽電池用濺射靶中,優(yōu)選為,所述施加物理應(yīng)力的加工為鍛造。
在本發(fā)明的太陽電池用濺射靶中,優(yōu)選為,對如下的兩點的測定處的腐蝕的深度進行測定時的該兩點間的所述深度之差的平均值在100μm以下,所述兩點的測定處為,在所述太陽電池用濺射靶的使用比率在10%以上時所形成的腐蝕的最深部處,以100μm的間距設(shè)定的、隔著銦的晶粒的晶粒邊界的兩點的測定處。
在本發(fā)明的太陽電池用濺射靶中,優(yōu)選為,對如下的兩點的測定處的腐蝕的深度進行測定時的該兩點間的所述深度之差的平均值在60μm以下,所述兩點的測定處為,在所述太陽電池用濺射靶的使用比率在10%以上時所形成的腐蝕的最深部處,以100μm的間距設(shè)定的、隔著銦的晶粒的晶粒邊界的兩點的測定處。
發(fā)明效果
對于本發(fā)明的太陽電池用濺射靶,濺射初期的濺射速率較高,且濺射速率的經(jīng)時性降低較小,而且能夠形成均質(zhì)的銦膜。也就是說,可期待直到壽命結(jié)束為止能夠以高速率形成均質(zhì)的膜。
附圖說明
圖1表示使用比率在10%以上時的靶材的俯視圖的一個示例。
圖2為在使用實施例3的銦靶而實施了濺射時所得到的銦膜表面的顯微鏡照片。
圖3為在使用實施例6的銦靶而實施了濺射時所得到的銦膜表面的顯微鏡照片。
圖4為在使用比較例1的銦靶而實施了濺射時所得到的銦膜表面的顯微鏡照片。
具體實施方式
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





