[發(fā)明專利]氨的精制方法及氨精制系統(tǒng)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201280004190.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-02-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103269980A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-08-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田井慎一;畑啟之;森本茂;吉田義則;津野修司;福島豐仁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 住友精化株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C01C1/02 | 分類號(hào): | C01C1/02;C01C1/12 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 陳建全 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 精制 方法 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對(duì)粗氨進(jìn)行精制(提純)的精制方法及氨精制系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體制造工序和液晶制造工序中,作為在氮化物被覆膜的制作等中使用的處理劑,使用高純度的氨。這樣的高純度的氨是通過(guò)對(duì)粗氨進(jìn)行精制來(lái)除去雜質(zhì)而得到的。
粗氨中作為雜質(zhì)含有氫氣、氮?dú)狻⒀鯕狻鍤狻⒁谎趸⒍趸嫉鹊头悬c(diǎn)氣體、烴、水分等。通常可獲得的粗氨的純度為98~99重量%左右。
作為粗氨中含有的烴,通常主要是碳原子數(shù)為1~4的烴,當(dāng)制造用作氨的合成原料的氫氣時(shí),若裂化氣中的油分的分離不充分、或者制造時(shí)受到由來(lái)自泵類的泵油導(dǎo)致的油污染,則有時(shí)也會(huì)混入沸點(diǎn)高的分子量大的烴。另外,當(dāng)氨中含有大量水分時(shí),使用該氨制造的半導(dǎo)體等的功能有時(shí)會(huì)顯著降低,因此需要盡量減少氨中的水分。
根據(jù)半導(dǎo)體制造工序和液晶制造工序中的使用氨的工序的種類的不同,氨中的雜質(zhì)的影響方式也不同。作為氨的純度,要求為99.9999重量%以上(各雜質(zhì)濃度為100ppb以下)、更優(yōu)選為99.99999重量%左右。近年來(lái),當(dāng)用于氮化稼那樣的發(fā)光體制造時(shí),要求水分濃度低于30ppb。
作為得到滿足該規(guī)格的高純度的氨的氨的精制方法,以往有蒸餾這一方式,專門使用能夠期待具有高的雜質(zhì)分離能力的精餾法。
例如,專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)的精制方法中,通過(guò)組合水分的吸附塔、烴的吸附塔和蒸餾塔而獲得高純度的氨。另外,專利文獻(xiàn)2中公開(kāi)的精制方法中,使用精餾塔首先從蒸餾塔的塔底部除去沸點(diǎn)高的雜質(zhì),將從該蒸餾塔的塔頂部導(dǎo)出的氨通入吸附塔而將水分除去。其后,在再次精餾塔中進(jìn)行蒸餾,從蒸餾塔的塔頂部將沸點(diǎn)低的雜質(zhì)除去,從蒸餾塔的塔底部得到高純度的氨。另外,專利文獻(xiàn)3中公開(kāi)的精制方法中,通過(guò)在蒸餾塔中將沸點(diǎn)低的雜質(zhì)除去,然后在吸附塔中將水分和氧除去,從而得到高純度的氨。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特表2008-505830號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本專利第4605705號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:日本專利第4062710號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
但是,專利文獻(xiàn)1~3中公開(kāi)的氨的精制方法中,用于除去微量雜質(zhì)的精餾需要高的蒸餾段數(shù),并且當(dāng)雜質(zhì)濃度高時(shí)需要將精餾時(shí)的回流比設(shè)定得較大,結(jié)果,精餾塔的建設(shè)費(fèi)用變?yōu)楦哳~,同時(shí)長(zhǎng)時(shí)間蒸餾還需要投入大量的能量。此外,雜質(zhì)濃度為高濃度時(shí),為了通過(guò)該精餾也使得氨中所含有的雜質(zhì)濃度達(dá)到目標(biāo)濃度以下,需要降低所得到的氨的成品率,或者根據(jù)不同情況,有時(shí)即使降低成品率也無(wú)法完全除去雜質(zhì)等。
另外,將氨中所含有的雜質(zhì)在吸附塔中吸附除去時(shí),當(dāng)雜質(zhì)的濃度高時(shí),吸附劑會(huì)在短時(shí)間內(nèi)達(dá)到吸附飽和而發(fā)生漏過(guò)(即無(wú)法繼續(xù)進(jìn)行吸附;英文為“breakthrough”;日文為“破過(guò)”),到需要對(duì)填充了吸附劑的吸附塔進(jìn)行再生的時(shí)間變短,存在出現(xiàn)無(wú)法繼續(xù)高效地生產(chǎn)的情況等問(wèn)題。
因此,本發(fā)明的目的在于提供即使在氨中含有高濃度的雜質(zhì)、也能夠以高的回收率、簡(jiǎn)單的操作、短的精制時(shí)間、低的能量投入對(duì)氨進(jìn)行精制的氨的精制方法及氨精制系統(tǒng)。
用于解決課題的手段
本發(fā)明涉及一種氨的精制方法,其是對(duì)含有雜質(zhì)的粗氨進(jìn)行精制的方法,其特征在于,包含部分冷凝工序,該工序中對(duì)粗氨進(jìn)行部分冷凝(partial?condensation)而分離成氣相成分和液相成分,從而將粗氨中所含有的雜質(zhì)作為氣相成分或液相成分分離除去。
另外,本發(fā)明的氨的精制方法中,所述部分冷凝工序優(yōu)選包含第1部分冷凝工序,該工序中將粗氨中作為雜質(zhì)含有的氫氣、氮?dú)狻⒀鯕狻鍤狻⒁谎趸肌⒍趸己吞荚訑?shù)為1~8的烴作為氣相成分分離除去。
另外,本發(fā)明的氨的精制方法中,所述部分冷凝工序優(yōu)選包含第2部分冷凝工序,該工序中將粗氨中作為雜質(zhì)含有的水分和碳原子數(shù)為9以上的烴作為液相成分分離除去。
另外,本發(fā)明的氨的精制方法中,所述部分冷凝工序中,所述第1部分冷凝工序優(yōu)選為所述第2部分冷凝工序的后續(xù)工序。
另外,本發(fā)明的氨的精制方法中,所述部分冷凝工序優(yōu)選包含第3部分冷凝工序,該工序中將通過(guò)在所述第1部分冷凝工序中對(duì)粗氨進(jìn)行部分冷凝而得到的液相成分氣化,對(duì)該氣化得到的氣化物進(jìn)行部分冷凝而分離成氣相成分和液相成分,將氣化物中所含有的對(duì)氨而言的雜質(zhì)作為氣相成分分離除去。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于住友精化株式會(huì)社,未經(jīng)住友精化株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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