[實用新型]晶圓清洗刷和晶圓清洗裝置有效
| 申請號： | 201220748957.0 | 申請日： | 2012-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN203018351U | 公開（公告）日： | 2013-06-26 |
| 發明（設計）人： | 唐強;汪堅俊;施成;李佩;馬智勇 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司 |
| 主分類號： | B08B1/04 | 分類號： | B08B1/04;B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 100176 北京市大興區*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 晶圓清 洗刷 清洗 裝置 | ||
1.一種晶圓清洗刷，其特征在于，包括彈性刷筒、彈性刷頭以及刷軸，所述彈性刷筒套設于所述刷軸的外側，所述彈性刷筒的內、外圓周表面分別設有若干所述彈性刷頭。
2.根據權利要求1所述晶圓清洗刷，其特征在于，所述彈性刷頭呈圓柱狀，所述彈性刷頭均勻分布于所述彈性刷筒的內、外圓周表面。
3.根據權利要求1所述晶圓清洗刷，其特征在于，所述彈性刷頭呈條狀，所述彈性刷頭呈螺旋狀均勻分布于所述彈性刷筒的內、外圓周表面。
4.根據權利要求1所述晶圓清洗刷，其特征在于，所述彈性刷筒的長度比晶圓的直徑長至少6cm。
5.一種晶圓清洗裝置，其特征在于，包括一對如權利要求1~4中任意一項所述的晶圓清洗刷，所述晶圓清洗刷分別壓在所述晶圓的正反表面并對晶圓進行滾動刷洗。
6.根據權利要求5所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述晶圓清洗裝置還包括兩排設有若干晶圓清洗噴嘴的第一噴水管，所述第一噴水管分別設置于所述晶圓正反面的斜上方。
7.根據權利要求5所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述晶圓正反面的斜上方還分別設有若干單獨控制角度、水壓和水量的晶圓清洗活動噴嘴。
8.根據權利要求5所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述晶圓清洗裝置還包括兩排設有若干彈性刷筒清洗噴嘴的第二噴水管，所述第二噴水管分別設置于對應彈性刷筒的斜上方。
9.根據權利要求5所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述彈性刷筒的斜上方還設有若干單獨控制角度、水壓和水量的彈性刷筒清洗活動噴嘴。
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