[實用新型]MOS管電阻器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220726774.9 | 申請日: | 2012-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN203013736U | 公開(公告)日: | 2013-06-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李鵬;張亮;吳艷輝;陳麗;陳寧;謝雪松 | 申請(專利權)人: | 上海貝嶺股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/8605 | 分類號: | H01L29/8605 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識產(chǎn)權代理有限公司 11225 | 代理人: | 劉鋒;劉世杰 |
| 地址: | 200233 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | mos 電阻器 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種在集成電路芯片上利用MOS管實現(xiàn)大電阻的集成MOS管電阻器。
背景技術
目前,芯片上實現(xiàn)電阻的常用方法有兩種,一種是用工藝廠商提供的電阻串聯(lián)或并聯(lián)實現(xiàn);另一種是用多個工作在線性電阻區(qū)的MOS管串聯(lián)或并聯(lián)實現(xiàn)。當電阻值大于106~109Ω時兩種方法都需要占用相當大的芯片面積,因此當電路設計中需要用到106~109Ω級或更大電阻時就無法集成在芯片內(nèi)部,只能通過管腳引出在板級外掛大電阻,外掛大電阻雖然能解決芯片內(nèi)部不能集成大電阻的問題,但是增加了芯片的封裝成本。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的,在于解決現(xiàn)有的利用半導體器件電阻所存在的上述問題,從而提供了一種具有新型結構的MOS管電阻器。
在本實用新型的一個方面,該MOS管電阻器包括第一電阻端子、第二電阻端子、以及位于該第一電阻端子和第二電阻端子之間的單向導通電阻單元,該單向導通電阻單元包括第一PMOS管和第二PMOS管,其中,
該第一PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極和該第一電阻端子相連接,該第一PMOS管的柵極和該第一PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接;
該第二PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極和該第一PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接,該第二PMOS管的柵極和該第二PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接,該第二PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極和該第二電阻端子相連接;
并且,該第一PMOS管的襯底引出極和該第二PMOS管的襯底引出極保持電位浮空。
優(yōu)選地,該第一PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極為該第一PMOS管的源極,該第一PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極為該第一PMOS管的漏極,該第二PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極為該第二PMOS管的源極,該第二PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極為該第二PMOS管的漏極。
優(yōu)選地,該第一PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極為該第一PMOS管的漏極,該第一PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極為該第一PMOS管的源極,該第二PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極為該第二PMOS管的漏極,該第二PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極為該第二PMOS管的源極。
在本實用新型的另一個方面,該MOS管電阻器括第一電阻端子、第二電阻端子、以及位于該第一電阻端子和第二電阻端子之間且相互并聯(lián)的第一單向導通電阻單元以及第二單向導通電阻單元,該第一單向導通電阻單元包括第一PMOS管和第二PMOS管,該第二單向導通電阻單元包括第三PMOS管和第四PMOS管,其中,
該第一PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極和該第一電阻端子相連接,該第一PMOS管的柵極和該第一PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接;
該第二PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極和該第一PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接,該第二PMOS管的柵極和該第二PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接,該第二PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極和該第二電阻端子相連接;
該第三PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極和該第二電阻端子相連接,該第三PMOS管的柵極和該第三PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接;
該第四PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極和該第三PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接,該第四PMOS管的柵極和該第四PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極相連接,該第四PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極和該第一電阻端子相連接;
并且,該第一PMOS管的襯底引出極、該第二PMOS管的襯底引出極、該第三PMOS管的襯底引出極和該第四PMOS管的襯底引出極保持電位浮空。
優(yōu)選地,該第一PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極為該第一PMOS管的源極,該第一PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極為該第一PMOS管的漏極,該第二PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極為該第二PMOS管的源極,該第二PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極為該第二PMOS管的漏極,該第三PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極為該第三PMOS管的源極,該第三PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極為該第三PMOS管的漏極,該第四PMOS管的第一P摻雜區(qū)域引出極為該第四PMOS管的源極,該第四PMOS管的第二P摻雜區(qū)域引出極為該第四PMOS管的漏極。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海貝嶺股份有限公司,未經(jīng)上海貝嶺股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220726774.9/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結耗盡層或載流子集結層的電容器或電阻器;半導體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





