[實用新型]一種用于光學加工的可調(diào)節(jié)拋光系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220725246.1
• 申請日: 2012-12-25
• 公開（公告）號: CN203003636U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發(fā)明（設計）人: 丁蛟騰;馬臻;許亮;鳳良杰
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: B24B13/00
• 分類號: B24B13/00;B24B13/01
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 張倩

1.一種用于光學加工的可調(diào)節(jié)拋光系統(tǒng)，其特征在于：包括三腳架（1）、鐵筆頭組件以及三組拋光裝置，所述拋光裝置包括滾珠絲杠組件、滾動直線導軌組件、測量組件、拋光組件；

所述三腳架（1）包括三個圓周均布的支撐板，所述支撐板的中心縱向設置有長條形孔，所述滾珠絲杠組件包括手輪（5）、支承座（21）、軸承（22）、絲杠（23）以及螺母座（24），所述支承座（21）固定在支撐板的縱向兩端，所述手輪與絲杠的一端固連，所述絲杠（23）通過固定在支承座上的軸承（23）支撐于支承座（21）上，所述螺母座（24）套接在絲杠（23）上，

所述滾動直線導軌組件包括導軌（31）和滑塊（32），所述導軌（31）固定在支撐板上且位于滾珠絲杠組件的一側(cè)，所述滑塊（32）設置在導軌（31）上并沿導軌（31）運動，所述滑塊（32）與螺母座（24）連接；

所述測量組件包括與螺母座（24）固連的位置指示裝置、設置在滾珠絲杠組件另一側(cè)且沿支撐板縱向布置的刻度裝置，所述位置指示裝置與刻度裝置對應。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于光學加工的可調(diào)節(jié)拋光系統(tǒng)，其特征在于：

所述拋光組件包括拋光盤座圈（101）、多個滾子（102）、限制架（103）、拋光盤滾圈（104）以及拋光盤（105），所述拋光盤座圈（101）下底面和拋光盤滾圈（104）之間圍成以球面方式布局的滾道，所述多個滾子（102）傾斜排列在所述滾道里，所述多個滾子通過設置在拋光盤滾圈（104）外側(cè)的限制架（103）限位；所述拋光盤座圈（101）上端穿過支撐板中心的長條形孔后通過螺母座連接件（8）與螺母座（24）相連，所述拋光盤（105）通過螺紋與拋光盤滾圈（104）配合固定。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于光學加工的可調(diào)節(jié)拋光系統(tǒng)，其特征在于：所述拋光組件包括拋光盤座圈（101）、推力調(diào)心滾子軸承以及拋光盤（105），所述推力調(diào)心滾子軸承位于拋光盤座圈（101）下底面和拋光盤滾圈（104）之間；所述拋光盤座圈（101）上端穿過支撐板中心的長條形孔后通過螺母座連接件（8）與螺母座（24）相連，所述拋光盤（105）通過螺紋與拋光盤滾圈（104）配合固定。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的用于光學加工的可調(diào)節(jié)拋光系統(tǒng)，其特征在于：所述位置指示裝置為光柵頭（62）以及數(shù)顯屏，所述刻度裝置為光柵尺座（61）。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的用于光學加工的可調(diào)節(jié)拋光系統(tǒng)，其特征在于：所述位置指示裝置為機械指針，所述測量裝置為刻度尺。