[實用新型]一種腔室氣流控制系統

有效

• 申請號: 201220710291.X
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN203002142U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 張明;徐俊成;馬嘉
• 申請（專利權）人: 北京七星華創電子股份有限公司
• 主分類號: B01D46/46
• 分類號: B01D46/46
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

技術領域

本實用新型涉及半導體制造技術領域，特別涉及一種腔室氣流控制系統。

背景技術

硅片清洗工藝中，清洗設備腔室內部的氣流均勻性直接影響清洗質量，氣體渦流的存在會造成微小顆粒聚集，增加微小顆粒在硅片表面的沉積幾率，污染硅片。目前，大多數廠商采用風機過濾器對腔室內部的氣體流動進行控制，按照SEMI標準，采用距風機過濾器過濾網下方150mm處的氣體流動均勻性衡量腔室內部的層流穩定性，控制層流風按照一定的流速在微環境內垂直流動，消除微小顆粒局部聚集，保持微環境潔凈等級。

隨著硅片清洗工藝集成度不斷提高，硅片表面微小顆粒的指標要求更加嚴格，腔室內部微環境質量的控制精度更加準確。同時，多腔室清洗設計成為當前清洗設備的研發主流，為保證硅片在不同腔室內部的清洗質量的統一性，距離硅片不同高度層流狀態的要求一致，穩定。通常情況下，設備整體的微環境氣流質量可通過對某一高度截面上任一點的風速與平均風速的比值比較，控制氣流運動矢量與垂直方向夾角小于14°，誤差在20%內，即表明設備整體微環境保持層流。傳統風機過濾器獨立控制對應腔室氣流，不同腔室之間的層流狀態沒有交互調節功能，特別是工藝過程中，機械手在不同腔室內部運動時對層流的影響得不到很好的控制，直接導致微小顆粒聚集，嚴重影響硅片的清洗效果，最終導致產品質量的下降。

發明內容

（一）要解決的技術問題

本實用新型要解決的技術問題是：如何提供一種實時控制腔室內氣流的系統，使腔室內的氣流保持在設定狀態。

（二）技術方案

為解決上述技術問題，本實用新型提供了一種腔室氣流控制系統，其特征是，該系統包括：

至少一個腔室控制單元，用于根據PCC控制器的控制指令對腔室的氣體壓力進行控制，所述腔室控制單元之間通過網線串聯；

和所述腔室控制單元連接的PCC控制器，用于接收所述腔室的數據并向所述腔室控制單元發送控制指令。

所述腔室控制單元包括：

壓力傳感器，用于測量腔室內外的氣體壓力差值，并將所述氣體壓力差值發送給數據處理單元；

風機過濾器，用于根據所述控制指令控制所述風機過濾器的風扇的轉速；

和所述風機過濾器連接的狀態檢測單元，用于檢測并發送所述風機過濾器的風扇的轉速數據給數據處理單元；

與所述壓力傳感器、風機過濾器和狀態檢測單元連接的數據處理單元，用于對接收的數據進行預處理并發送給數據傳輸單元；

和所述數據處理單元連接的數據傳輸單元，用于將所述數據處理單元輸出的數據和其他數據傳輸單元發來的數據發送給PCC控制器或與該數據傳輸單元連接的下一個數據傳輸單元。

所述PCC控制器和串聯在一起的腔室控制單元的首端的腔室控制單元或尾端的腔室控制單元連接。

所述壓力傳感器為Setra265差壓傳感器。

所述PCC控制器為貝加萊PCC可編程計算機控制器。

所述狀態檢測單元為CS1030通訊模塊。

（三）有益效果

本實用新型通過壓力傳感器實時采集腔室內外氣體壓力差值信號，能夠對氣壓的變化及時做出反應；PCC控制器根據采集的腔室壓力差值信號發出控制指令，控制風機過濾器實時調整風扇風速，使得腔室內的氣壓穩定在設定值。腔室控制單元之間通過網線串聯在一起，將所有腔室控制單元的信息發送給PCC控制器集中控制，有利于對腔室內氣體壓力的協調控制。本實用新型能夠對腔室內的氣體壓力做出及時調整，抗干擾能力強，能夠使腔室氣壓穩定在設定值。本實用新型系統能夠根據實際腔室的需要靈活配置。

附圖說明

圖1是本申請的系統連接圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的范圍。

本實用新型涉及一種均勻氣流裝置的控制方法，具體涉及半導體制造領域內的腔室微環境氣流均勻性控制，目的在于保證微小顆粒在半導體表面的沉積情況的最小化，最大限度降低微小顆粒聚集對硅片表面造成的污染。

本實用新型系統包括：

1、腔室控制單元，至少一個腔室控制單元，用于根據PCC控制器的控制指令對腔室的氣體壓力進行控制，所述腔室控制單元之間通過網線串聯，如圖1所示；