[實用新型]多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201220694193.1
• 申請日: 2012-12-14
• 公開（公告）號: CN202968682U
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 陳宇
• 申請（專利權）人: 廣東志成冠軍集團有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，包括至少一個鍍膜室，其特征在于，所述鍍膜室內壁上具有用于磁控濺射鍍膜的可交替使用的立式靶和傾斜靶，對應所述立式靶在所述鍍膜室內設置移動式的立式基材承載架，對應所述傾斜靶在所述鍍膜室內設置移動式的傾斜式基材承載架。

2.根據權利要求1所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜室的第一側面開有靶位口，所述靶位口的一側轉動設置第一靶位門板，所述靶位口的另一側轉動設置第二靶位門板，以使所述第一靶位門板與所述第二靶位門板能交替的關閉在所述靶位口處。

3.根據權利要求2所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述第一靶位門板上至少設置一個立式靶座，在所述立式靶座上拆卸式安裝有所述立式靶，所述第二靶位門板上至少設置一個傾斜靶座，在所述傾斜靶座上拆卸式安裝有所述傾斜靶。

4.根據權利要求2所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述立式基材承載架的一端設置有第一滑行凹槽，另一端設置第一傳動摩擦部，所述鍍膜室內側頂部對應所述第一滑行凹槽設置直立導向輪，所述鍍膜室內側底部對應所述第一傳動摩擦部設置摩擦傳動輪，所述摩擦傳動輪通過傳動轉軸與所述鍍膜室外部的動力裝置連接，所述傳動轉軸與所述鍍膜室接觸處設置用于密封的磁流體密封件；

在所述直立導向輪的一側設置傾斜導向輪，對應所述傾斜導向輪在所述傾斜式基材承載架端部設置第二滑行凹槽，在所述傾斜式基材承載架遠離所述第二滑行凹槽的一端設置與所述摩擦傳動輪相匹配的第二傳動摩擦部。

5.根據權利要求4所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述立式靶座的座面與地面呈垂直設置，對應的立式靶的靶面、直立基材承載架的架面也均與地面呈垂直設置，所述傾斜靶座的座面與地面呈夾角α設置，對應的傾斜靶的靶面、傾斜式基材承載架的架面也均與地面呈夾角α設置。

6.根據權利要求3所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述第一靶位門板上平行設置兩個所述立式靶座，所述第二靶位門板上平行設置兩個所述傾斜靶座。

7.根據權利要求2所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，還包括分別設置在所述鍍膜室兩側的第一鍍膜緩沖室和第二鍍膜緩沖室，所述第一鍍膜緩沖室遠離鍍膜室的一側設置第一過渡室，所述第二鍍膜緩沖室遠離鍍膜室的一側設置第二過渡室，所述第一過渡室遠離第一鍍膜緩沖室的一側設置進片室，所述第二過渡室遠離第二鍍膜緩沖室的一側設置出片室，所述進片室與第一過渡室之間、所述第一過渡室與第一鍍膜緩沖室之間、所述第二鍍膜緩沖室與第二過渡室之間、所述第二過渡室與出片室之間均設置用于隔絕各個腔室的隔離閥門，所述第一鍍膜緩沖室、鍍膜室、第二鍍膜緩沖室之間呈貫通設置。

8.根據權利要求5所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述傾斜靶座的座面、傾斜靶的靶面、傾斜式基材承載架的架面與地面的夾角α為銳角。

9.根據權利要求1～8任一所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述進片室、第一過渡室、第一鍍膜緩沖室、鍍膜室、第二鍍膜緩沖室、第二過渡室以及出片室上分別獨立設置真空泵機組，使各個腔室能獨立抽取真空。

10.根據權利要求2～8任一所述的多功能連續式磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述第一靶位門板周邊設置用于與所述靶位口密封連接的密封圈，所述第二靶位門板周邊設置用于與所述靶位口密封連接的密封圈。