[實用新型]一種用于清洗鈮酸鋰基片的裝置

有效

• 申請號: 201220686281.7
• 申請日: 2012-12-13
• 公開（公告）號: CN203018414U
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 陳延清;張海林;黃念青
• 申請（專利權）人: 上海亨通光電科技有限公司
• 主分類號: B08B13/00
• 分類號: B08B13/00;B08B3/08
• 代理公司: 上海申蒙商標專利代理有限公司 31214
• 代理人: 徐小蓉

技術領域

本實用新型涉及基片清洗領域，具體涉及一種用于清洗鈮酸鋰基片的裝置。

背景技術

在現有技術中，清洗鈮酸鋰基片時普遍采用濕法清洗，清洗過程中由于沒有固定裝置，一般通過手或簡單夾具夾持基片，雖然可以抓住，但是并不能完全去除基片表面雜質，無法保證其表面的潔凈度，同時還會對基片產生應力，損傷基片晶向結構，此外人工清洗鈮酸鋰基片的效率極低。因此本領域的技術人員急需一種可以提高清洗基片效率并確保高潔凈度的清洗裝置。

發明內容

本實用新型的目的是根據上述現有技術的不足之處，提供一種用于清洗鈮酸鋰基片的裝置，該裝置通過在其內部開設開放式空腔，并在空腔內壁上開設若干基片插槽，以更好地解決清洗工藝中基片不易清洗以及效率不高的問題。

本實用新型目的實現由以下技術方案完成：

一種用于清洗鈮酸鋰基片的裝置，其特征在于所述裝置為一開放式空腔，在所述空腔內壁上開設有插槽，同時在所述空腔的開口側面上設置有可拆卸的定位栓。

所述裝置為圓柱形。

所述空腔至少具有一個開口側面。

所述裝置的底部鏤空。

所述插槽厚度不小于所述鈮酸鋰基片的厚度。

所述裝置的頂部設置有一小圓柱體，在所述小圓柱體上橫向貫穿開設有一通孔。

本實用新型的優點是，可將復數基片固定在夾具上，同時清洗多片鈮酸鋰基片，清洗效率較高；夾具設計合理，可節約清洗所用的化學試劑，潔凈度高并且操作簡易。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型的俯視圖；

圖3為本實用新型的B-B剖面圖。

具體實施方式

以下結合附圖通過實施例對本實用新型的特征及其它相關特征作進一步詳細說明，以便于同行業技術人員的理解：

如圖1-3，圖中標記1-6分別為：空腔1、插槽2、定位栓3、通孔4、小圓柱體5、定位栓孔6。

實施例：如圖1—3所示，本實施例具體涉及一種用于清洗鈮酸鋰基片的裝置，該裝置具體為一圓柱形的開放式空腔1，空腔1具有一個開口的外側面，并且其底面鏤空；在空腔1的內壁面上設置有鈮酸鋰基片插槽2，插槽2的厚度不小于鈮酸鋰基片的厚度；在空腔1的頂面和底面上分別設置有定位栓孔6，在定位栓孔6中自上而下貫穿插入定位栓3，定位栓3可用于固定鈮酸鋰基片，防止其在清洗過程中發生晃動；同時在空腔1的頂面上設置有一小圓柱體5，小圓柱體5上橫向貫穿開設有通孔4，具體用以同機械手臂或控制裝置的連接。

在具體使用時，首先分別將各鈮酸鋰基片插入插槽2中，然后用定位栓3插入定位栓孔6中固定鈮酸鋰基片，此種固定結構可以將固定有鈮酸鋰基片的空腔1整體放入清洗液中清洗，達到安全高效潔凈度高的清洗。