[實(shí)用新型]一種曝光同步盒及曝光同步系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220686270.9
• 申請(qǐng)日: 2012-12-12
• 公開（公告）號(hào): CN203072242U
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王應(yīng)華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海奕瑞光電子科技有限公司
• 主分類號(hào): H05G1/30
• 分類號(hào): H05G1/30
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所 31219
• 代理人: 余明偉

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于X射線數(shù)字成像技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種曝光同步裝置，特別是涉及一種曝光同步盒及曝光同步系統(tǒng)。

背景技術(shù)

平板探測(cè)器利用面陣探測(cè)器取代了傳統(tǒng)膠片等材料，將X射線透照工件生成的圖像信號(hào)轉(zhuǎn)換成易于存儲(chǔ)和處理、且符合一定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)字圖像，其相對(duì)于線陣探測(cè)器提高了圖像的讀出速度，減少了X射線的曝光時(shí)間。現(xiàn)在，平板探測(cè)器已被廣泛應(yīng)用于工業(yè)、X射線無(wú)損檢測(cè)成像、醫(yī)學(xué)攝影等領(lǐng)域，其最大的優(yōu)點(diǎn)是可與電腦連接。平板探測(cè)器具有40x43cm的像素間距和很寬成像范圍，可以提供清晰、高分辨率診斷圖像。

現(xiàn)有的平板探測(cè)器主要分為兩種，非晶態(tài)硒平板和非晶態(tài)硅平板。非晶態(tài)硒平板包括非晶硒層和薄膜半導(dǎo)體陣列（Thin?Film?Transistor?array，TFT）。非晶態(tài)硒平板的成像原理是：向非晶硒層加正向偏置電壓，即預(yù)置初始狀態(tài)；在X射線照射下，非晶硒層產(chǎn)生電子、空穴對(duì)，電子空穴對(duì)在外加電場(chǎng)的作用下產(chǎn)生電流，并在TFT層存儲(chǔ)電荷；讀取TFT層存儲(chǔ)的電荷，放大并經(jīng)過A/D轉(zhuǎn)換后輸出到計(jì)算機(jī)。非晶態(tài)硅平板包括閃爍體或熒光體層、非晶硅層、TFT。非晶態(tài)硅平板的成像原理是：入射的X射線圖像經(jīng)閃爍晶體轉(zhuǎn)換成可見光圖像，可見光圖像由非晶硅層和TFT轉(zhuǎn)換成電荷圖像，電荷圖像被集成電路讀出板讀出并轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)傳輸給計(jì)算機(jī)，形成X射線數(shù)字圖像。

平板探測(cè)器獲取圖像的時(shí)間是探測(cè)器預(yù)備時(shí)間、曝光等待時(shí)間、曝光時(shí)間、和圖像讀出時(shí)間的總和。其中，曝光時(shí)間與曝光窗口的大小有關(guān)。現(xiàn)有的平板探測(cè)器在進(jìn)行圖像獲取時(shí)，其從探測(cè)器預(yù)備曝光、曝光等待到最后曝光上圖都是由操作人員控制的，操作流程復(fù)雜，時(shí)間不確定性很強(qiáng)，不利于平板探測(cè)器智能獲取圖像。

實(shí)用新型內(nèi)容

鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種曝光同步盒及曝光同步系統(tǒng)，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中平板探測(cè)器的圖像獲取流程復(fù)雜，曝光上圖時(shí)間過長(zhǎng)的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供一種曝光同步盒及曝光同步系統(tǒng)。

一種曝光同步盒，所述曝光同步盒包括：處理器、繼電器；所述處理器用于采集曝光準(zhǔn)備信號(hào)，并將所述曝光準(zhǔn)備信號(hào)同步發(fā)送給一探測(cè)器和一高壓發(fā)生器，以便所述探測(cè)器和高壓發(fā)生器做好曝光準(zhǔn)備工作；同時(shí)還用于接收所述探測(cè)器發(fā)送的曝光準(zhǔn)備完畢信號(hào)；所述繼電器與所述處理器相連，用于將所述曝光準(zhǔn)備信號(hào)傳輸給所述高壓發(fā)生器，以便高壓發(fā)生器旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極，預(yù)備曝光；所述處理器還用于采集曝光信號(hào)，并在收到所述曝光準(zhǔn)備完畢信號(hào)后的預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)將所述曝光信號(hào)通過所述繼電器發(fā)送給所述預(yù)備曝光的高壓發(fā)生器曝光。

優(yōu)選地，所述曝光同步盒還包括：格式轉(zhuǎn)換模塊、指示燈、電源；所述格式轉(zhuǎn)換模塊與所述處理器相連，用于將所述處理器輸出的曝光準(zhǔn)備信號(hào)轉(zhuǎn)換成計(jì)算機(jī)能識(shí)別的格式傳輸給計(jì)算機(jī)，以便計(jì)算機(jī)將所述曝光準(zhǔn)備信號(hào)轉(zhuǎn)發(fā)給所述探測(cè)器；所述指示燈與所述處理器相連，用于顯示所述探測(cè)器是否完成曝光準(zhǔn)備工作；所述電源與所述處理器、繼電器、格式轉(zhuǎn)換模塊和指示燈分別相連，用于供電。

優(yōu)選地，所述格式轉(zhuǎn)換模塊為UART轉(zhuǎn)USB模塊。

一種曝光同步系統(tǒng)，所述曝光同步系統(tǒng)包括：曝光閘、曝光同步盒、計(jì)算機(jī)、控制盒、探測(cè)器、高壓發(fā)生器；所述曝光閘用于發(fā)出曝光準(zhǔn)備信號(hào)和曝光信號(hào)；所述曝光同步盒包括處理器；所述處理器與所述曝光閘相連，用于采集曝光準(zhǔn)備信號(hào)，并將所述曝光準(zhǔn)備信號(hào)同步發(fā)送給一計(jì)算機(jī)和一高壓發(fā)生器；所述計(jì)算機(jī)與所述處理器相連，用于將所述曝光準(zhǔn)備信號(hào)轉(zhuǎn)發(fā)給一控制盒；所述控制盒與所述計(jì)算機(jī)相連，用于將所述曝光準(zhǔn)備信號(hào)轉(zhuǎn)發(fā)給一探測(cè)器；所述探測(cè)器與所述控制盒相連，用于接收所述曝光準(zhǔn)備信號(hào)做好曝光準(zhǔn)備工作，并發(fā)出曝光準(zhǔn)備完畢信號(hào)，使曝光準(zhǔn)備完畢信號(hào)通過所述控制盒和計(jì)算機(jī)轉(zhuǎn)發(fā)給所述曝光同步盒中的處理器；所述高壓發(fā)生器與所述曝光同步盒中的處理器相連，用于接收所述曝光準(zhǔn)備信號(hào)并旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極；所述處理器還用于采集曝光信號(hào)，并在收到所述曝光準(zhǔn)備完畢信號(hào)后的預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)將所述曝光信號(hào)發(fā)送給所述高壓發(fā)生器曝光。

優(yōu)選地，所述曝光同步盒還包括：繼電器、格式轉(zhuǎn)換模塊、指示燈、電源；所述繼電器與所述處理器和高壓發(fā)生器分別相連，用于將所述處理器輸出的曝光準(zhǔn)備信號(hào)和曝光信號(hào)轉(zhuǎn)發(fā)給所述高壓發(fā)生器；所述格式轉(zhuǎn)換模塊與所述處理器和計(jì)算機(jī)分別相連，用于將所述處理器輸出的曝光準(zhǔn)備信號(hào)轉(zhuǎn)換成計(jì)算機(jī)能識(shí)別的格式傳輸給計(jì)算機(jī)；所述指示燈與所述處理器相連，用于顯示所述探測(cè)器是否完成曝光準(zhǔn)備工作；所述電源與所述處理器、繼電器、格式轉(zhuǎn)換模塊和指示燈分別相連，用于供電。

優(yōu)選地，所述格式轉(zhuǎn)換模塊為UART轉(zhuǎn)USB模塊。