[實用新型]調節式布氣系統及包含其的磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201220680331.0
• 申請日: 2012-12-10
• 公開（公告）號: CN202936476U
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發明（設計）人: 陳宇
• 申請（專利權）人: 廣東志成冠軍集團有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射鍍膜技術領域，尤其涉及一種調節式布氣系統，以及包含該調節式布氣系統的磁控濺射鍍膜裝置。

背景技術

磁控濺射鍍膜技術是當前廣泛應用的鍍膜技術方法，被普遍應用于光學、微電子、耐磨、耐蝕、裝飾等產業領域，用以提供可靠而穩定的薄膜鍍層。如裝飾用彩色鍍膜，手機殼鍍膜，建筑玻璃low-e鍍膜，ITO透明導電玻璃鍍膜等。

磁控濺射鍍膜的均勻性非常重要，尤其是對于光學、微電子產品鍍膜，其均勻性對產品的質量和成品率有重要影響。影響磁控濺射鍍膜均勻性的因素很多，包括溫場均勻性，等離子體均勻性、工藝氣體布氣均勻性、磁場的均勻性等。對于布氣系統，傳統的是采用單一進氣管的方式，采用此種方式布氣容易出現布氣不夠均勻，由于平面靶主要是長方形，長寬比很大，因此其主要存在縱向布氣不均勻問題，即靶面從上到下布氣分布不均勻，從左到右的布氣則基本均勻。為了解決上述問題，有技術人員提出一種混合式布氣管，用于解決單一進氣管布氣不均勻的問題，例如，中國專利文獻CN?202322999U公開一種“混合式布氣管”，其包括進氣管和輸氣管，所述進氣管與所述輸氣管的進氣口相連接，所述輸氣管分布有多層，其出氣口連接有減壓管，所述減壓管上均布有出氣孔，上述混合式布氣管通過增設減壓管，氣體通過在減壓管內體積膨脹的減壓作用，從而獲得流經各小孔氣體的等流速，達到布氣均勻的效果。但是此混合式布氣管具有以下缺陷：1、此布氣系統雖然可進一步優化布氣的均勻性，但是其缺乏可調節性，是一種預設固定好的裝置，只有一定的適用范圍，對于對薄膜一致性要求高的應用領域，當氣體流速改變，氣孔出現堵塞，氣體種類改變以及靶基距不均勻等情況出現時，其應用效果會下降；2、對布氣均勻性的調節缺乏量化指標，大多憑經驗判斷。

又例如，中國專利文獻CN?201313933Y公開一種“二元布氣管”，其包括磁控濺射陰極的進氣管、控制進氣管流量的閥門,所述磁控濺射陰極的進氣管的末端部分和中間部分各自采用獨立的進氣管分別供氣。通過構建一種二元布氣管,使磁控濺射陰極末端部分和中間部分都能更加均勻地進氣,從而使反應濺射鍍膜更加均勻。此二元布氣管雖然具有可調節性，但是其不具有測量不同區域的布氣量的功能，不能實現定量測量，因此在鍍制不同膜層厚度時，只能根據經驗調節和判斷，所以不能應用到精確鍍膜中，并且其布氣方式結構復雜，成產成本較高，操作和維護也很困難。

實用新型內容

本實用新型的一個目的，在于提供一種調節式布氣系統，使得布氣更加均勻，同時還可根據實際需要調節氣體的流量，以及對不同區域的布氣量進行精確的定量測量，達到實時控制、精確鍍膜的目的。

本實用新型的另一個目的，在于提供一種調節式布氣系統，其結構簡單，操作和維護方便，成產成本低廉。

本實用新型的另一個目的，在于提供一種磁控濺射鍍膜裝置，通過使用可調式布氣系統，使得布氣更加均勻，同時還可根據實際需要調節氣體的流量，以及對不同區域的布氣量進行精確的定量測量，達到實時控制、精確鍍膜的目的，并且使整個裝置的結構簡單化，操作和維護方便，降低生產成本。

為達上述目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種調節式布氣系統，包括至少兩根平行設置的布氣管，每根所述布氣管上均設置流量計，相鄰兩根所述布氣管上錯列設置吹氣部。

作為調節式布氣系統的一種優選方案，所述吹氣部是由多個規格相同的均勻排列的氣孔構成，每個氣孔沿布氣管的徑向開設，多個氣孔在布氣管沿其軸向依次布置。

優選的，所述布氣管有三根，分別為第一布氣管、第二布氣管和第三布氣管，所述第一布氣管、第二布氣管和第三布氣管上均設置與磁控濺射靶的靶面的長度相匹配的吹氣段，此吹氣段從上至下均分為三段，分別為第一段、第二段、第三段，所述第一布氣管的第二段設置吹氣部，所述第二布氣管的第一段設置吹氣部，所述第三布氣管的第三段設置吹氣部，三個所述吹氣部的長度之和與磁控濺射靶的靶面的長度相匹配。

更加優選的，所述吹氣部包括均勻排列的二十三個氣孔。

優選的，所述布氣管有三根，分別為第一布氣管、第二布氣管和第三布氣管，所述第一布氣管、第二布氣管和第三布氣管上均設置與磁控濺射靶的靶面的長度相匹配的吹氣段，此吹氣段從上至下均分為三段，分別為第一段、第二段、第三段；