[實用新型]八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構有效
| 申請號: | 201220575402.0 | 申請日: | 2012-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN202881384U | 公開(公告)日: | 2013-04-17 |
| 發明(設計)人: | 何四紅;龔長松 | 申請(專利權)人: | 光為綠色新能源股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C23C16/52;C30B25/14;C30B25/16 |
| 代理公司: | 北京同輝知識產權代理事務所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 劉洪勛 |
| 地址: | 074000 河北省保定市高*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 八個 板式 pecvd 管路 控制 結構 | ||
技術領域
本實用新型涉及光伏領域,特別涉及一種板式PECVD(等離子體增強化學氣相沉積法)特氣管路。?
背景技術
在現有技術中,八個U型槽的板式PECVD(等離子體增強化學氣相沉積法)鍍膜設備特氣管路設置如圖1所示,八個U型槽分為兩組,每組包括四根U型槽,一組U型槽由一組控制器控制,每組控制器由一個NH3控制器和一個SiH4控制器組成,這種控制方式產生的單層膜采用橢偏儀測量所得結果為膜厚為88μm、折射率為2.08,正常制絨、擴散、刻蝕、印刷燒結后的效率為16.60%;且這種控制方式不利于氮化硅膜的雙層膜和多層膜的調試,不利于雙層氮化硅膜技術的應用,無法進行多層氮化硅膜技術的應用,即使可以調節雙層膜,但這也嚴重影響PECVD的產量,成為制約批量生產的產能瓶頸,更無法進行多層膜的調試,原有板式PECVD的特氣管路設備以無法滿足現行光伏工藝技術的發展速度。?
實用新型內容
針對現有技術中存在的不足,本實用新型的目的在于提供一種保證PECVD產量的同時可以實現雙層膜和多層膜調試的八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構。?
本實用新型的技術方案是這樣實現的:?
一種八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構,包括八根U型槽和控制器,每組所述控制器由一個NH3控制器和一個SiH4控制器組成,所述控制器為三組或四組,每組所述控制器控制最多四根所述U型槽,當一組所述控制器控制四根所述U型槽時,剩余的其他組所述控制器相應分配控制剩余四根所述U型槽。?
上述的八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構,每根U型槽僅能通過一組控制器控制。?
上述的八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構,包括三組控制器,其中一組控制器控制四根U型槽,一組控制器控制三根U型槽,剩余一組控制器相應控制一根U型槽。?
上述的八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構,包括三組控制器,其中一組控制器控制四根U型槽,剩余每組控制器各控制兩根U型槽。?
上述的八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構,包括四組控制器,每組控制器各控制兩根U型槽。?
上述的八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構,包括四組控制器,其中兩組控制器各單獨控制一根U型槽,剩余兩組控制器各單獨控制三根U型槽。?
本實用新型的有益效果是:通過不同的控制結構對板式PECVD特氣管路進行控制,在保證生產產量和設備可控性較好的情況下實現雙層膜和多層膜的試驗和量產推廣,可以使電池片的轉換效率提升0.2%-0.3%左右。?
附圖說明
圖1為現有技術中八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構示意圖,?
圖2為本實用新型八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構的實施例1的結構示意圖,?
圖3為本實用新型八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構的一種實施例2的結構示意圖,?
圖4為本實用新型八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構的一種實施例3的結構示意圖,?
圖5為本實用新型八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構的一種實施例4的結構示意圖。?
具體實施方式
結合附圖對本實用新型做進一步的說明:?
一種八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構,包括八根U型槽和控制器,每組所述控制器由一個NH3控制器和一個SiH4控制器組成,每組控制器控制最多四根U型槽,當一組控制器控制四根U型槽時,剩余的其他組控制器相應分配控制剩余四根U型槽,每根U型槽僅能通過一組控制器控制。?
實施例1?
如圖2所示,八個U型槽的板式PECVD特氣管路的控制結構,包括三組控制器,其中一組控制器控制四根U型槽,一組控制器控制三根U型槽,剩余一組控制器相應控制一根U型槽,這種控制結構結構有利于制作第一層膜較薄的雙層膜或具有多層結構的漸進膜,雙層膜通過橢偏儀進行測量后的結果為膜厚84μm、折射率2.08,正常制絨、擴散、刻蝕、印刷燒結后的效?率為16.80%,較之現有控制結構所產生的單層膜的效率提升0.2%;三層氮化硅膜通過橢偏儀進行測量后的結果為膜厚82、折射率2.09,正常制絨、擴散、刻蝕、印刷燒結后的效率為16.85%左右,較單層膜效率提高0.25%。?
實施例2?
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





