[實用新型]用于碳化硅生產過程中的濁度改善裝置有效
| 申請號: | 201220565728.5 | 申請日: | 2013-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN202983900U | 公開(公告)日: | 2013-06-12 |
| 發明(設計)人: | 李軍濤;于德水;侯亞飛;裴占立;霍東建 | 申請(專利權)人: | 開封萬盛新材料有限公司 |
| 主分類號: | B04B1/00 | 分類號: | B04B1/00;B04B11/04 |
| 代理公司: | 鄭州大通專利商標代理有限公司 41111 | 代理人: | 樊羿 |
| 地址: | 475000 *** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 碳化硅 生產過程 中的 濁度 改善 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種濁度處理裝置,具體涉及一種用于碳化硅生產過程中的濁度改善裝置。
背景技術
濁度是指水中懸浮物對光線透過時所發生的阻礙程度。在碳化硅生產過程中,其洗滌溶液的濁度是一項重要的控制指標,其濁度主要是碳化硅中含有的微小顆粒與雜質引起的,將碳化硅中微小顆粒與雜質分離去除就可以降低濁度。碳化硅濁度檢驗儀器主要為濁度計,檢驗方法為稱取5g樣品放入燒杯中,加入200mL去離子水,混合均勻靜置30分鐘,提取上層溶液測樣品清潔度。
在碳化硅生產的行業內,降低改善濁度的方式采用三種方法:①采用多次水(或純水)水洗(虹吸或溢流或兩者結合)的方法,將碳化硅中的雜質除去,降低濁度;②采用分級機分離的方法,將碳化硅中的雜質除去,降低濁度;③采用分散劑的方法,將碳化硅中的雜質除去,降低濁度。
目前隨著科技的發展,各行各業對碳化硅產品的純度等質量指標要求日益嚴格來越高。現有方法中有的工藝流程較為復雜,有的濁度改善效果差強人意,有的會引入新的雜質,均難以滿足人們對的碳化硅產品的純度等質量需要。
發明內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種工藝流程簡單、不引入新雜質且改善效果較好的用于碳化硅生產過程中的濁度改善裝置。
為解決上述技術問題,本實用新型采用的技術方案是:
設計一種用于碳化硅生產過程中的濁度改善裝置,包括由相應的管道依次連接的料漿池、上料泵、離心機,所述離心機為刮刀離心機。
所述刮刀離心機為平板式刮刀下部卸料離心機。
所述平板式刮刀下部卸料離心機包括轉鼓、刮刀組件、轉鼓驅動機構、控制單元、機殼及機座,所述轉鼓安裝于所述機殼內,兩者之間形成排液通道,所述轉鼓下部開設有卸料口,所述刮刀組件包括刮刀、刮刀驅動部件,所述刮刀伸展至所述轉鼓內,所述控制單元分別與所述轉鼓驅動機構、刮刀驅動部件信號連接。
所述平板式刮刀下部卸料離心機還設置有布料機構,其包括布料電機、安裝在所述轉鼓內的布料盤、伸展至所述轉鼓內的進料管以及洗滌管,所述布料盤傾斜設置,所述進料管、洗滌管分別與所述布料盤相連接。
所述上料泵為隔膜泵。
本實用新型具有積極有益的效果:
該裝置是通過物理離心方式將碳化硅中的雜質及微小顆粒分離取出,來降低濁度,工藝流程簡單、處理效果好且不引入雜質。
附圖說明
圖1為一種用于碳化硅生產過程中的濁度改善裝置的結構示意圖;
圖2為圖1中平板式刮刀下部卸料離心機的結構示意圖。
圖中,1為轉鼓,2為殼體,3為排液通道,4為機座,5為卸料口,6為下料斗,7為轉鼓驅動電機,8為刮刀,9為刮刀驅動部件,10為進料通道,11為布料電機,12為布料盤,13為平板式刮刀下部卸料離心機,14為隔膜泵,15為料漿池,16為攪拌機構。
具體實施方式
以下結合具體實施例進一步闡述本實用新型。下述實施例中的各參數測定方法或檢查方法,如無特別說明,均為常規方法。
實施例1??一種用于碳化硅生產過程中的濁度改善裝置,參見圖1、圖2,包括由相應的管道依次連接的料漿池15、隔膜泵14、平板式刮刀下部卸料離心機13(PGZ1250),該所述平板式刮刀下部卸料離心機13包括轉鼓1、刮刀組件、轉鼓驅動電機7、布料機構、控制單元、殼體2及機座4,轉鼓1安裝于殼體2內,兩者之間形成排液通道3,轉鼓1下部開設有卸料口5,所述刮刀組件包括刮刀8、刮刀驅動部件9,刮刀8伸展至轉鼓1內,所述控制單元分別與所述轉鼓驅動機構、刮刀驅動部件信號連接;上述刮刀驅動部件包括旋轉油缸、升降油缸,所述旋轉油缸完成刮刀的旋轉及旋轉復位,所述升降油缸完成刮刀的下降及上升復位;所述布料機構包括布料電機11、安裝在轉鼓1內的布料盤12、伸展至轉鼓1內的進料通道10以及洗滌管,布料盤12傾斜設置,進料通道10、洗滌管分別與布料盤12相連接。
利用上述濁度改善裝置進行濁度處理的方法:
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