[實用新型]真空連續沉浸機的真空浸漬裝置

有效

• 申請號: 201220553487.2
• 申請日: 2012-10-26
• 公開（公告）號: CN202848640U
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 戴振華
• 申請（專利權）人: 張家港市雙成電工設備有限公司
• 主分類號: B65G49/04
• 分類號: B65G49/04
• 代理公司: 張家港市高松專利事務所(普通合伙) 32209
• 代理人: 孫高

1.真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，包括真空浸漬缸和兩條相互平行的循環鏈，所述循環鏈安裝于機殼內部，其特征在于：兩條循環鏈對應的鏈軸之間連接有懸掛軸，該真空浸漬缸位于循環鏈下方的浸漬工位，且該真空浸漬缸由升降裝置驅動升降，所述真空浸漬裝置還包括若干個缸蓋，該缸蓋通過懸掛裝置間隔均勻的懸掛于循環鏈的各懸掛軸上，所述缸蓋的下端安裝有待浸漬工件，所述真空浸漬缸的上端法蘭上安裝有與缸蓋下端面密封配合的密封裝置，所述真空浸漬缸與抽真空裝置連接，在浸漬工位處位于下段循環鏈的上方安裝有限制缸蓋上移的缸蓋定位支撐裝置。

2.如權利要求1所述的真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，其特征在于：所述缸蓋定位支撐裝置包括固定于機殼上的支撐梁，該支撐梁可與懸掛裝置配合定位支撐。

3.如權利要求2所述的真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，其特征在于：所述懸掛裝置包括沿懸掛軸軸向設置的若干個掛鉤，該掛鉤的下端與缸蓋固定連接，所述支撐梁上設有分別與各掛鉤上端部一一對應配合的定位支撐塊。

4.如權利要求1所述的真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，其特征在于：所述缸蓋定位支撐裝置包括固定于機殼上的支撐梁，對應的，所述缸蓋的上端設有與支撐梁頂緊限位的頂塊。

5.如權利要求1至4任一項所述的真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，其特征在于：所述升降裝置為液壓升降平臺。

6.如權利要求5所述的真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，其特征在于：所述密封裝置包括設置于真空浸漬缸的上端法蘭上的密封墊，該密封墊與缸蓋的下端面配合密封。

7.如權利要求6所述的真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，其特征在于：所述待浸漬工件通過掛鉤或者懸掛吊籃安裝于缸蓋上。