[實用新型]氣泡釋放閥

有效

• 申請號: 201220531752.7
• 申請日: 2012-10-17
• 公開（公告）號: CN202892987U
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 吳良輝
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: B01D19/02
• 分類號: B01D19/02
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 李儀萍

技術領域

本實用新型屬于半導體制造領域，涉及一種化學液體供應設備，特別是涉及一種氣泡釋放閥。?

背景技術

在半導體集成電路的各個制造工藝中，常需要用到各種化學液體。在化學清洗工藝中，對于硅片表面污染，需要用有機溶劑、堿液、合成洗滌劑等清洗有機雜質，用鹽酸、硫酸、硝酸等無機酸清洗無機雜質。在半導體器件生產中還常用重鉻酸鉀洗液等氧化劑清洗玻璃、石英器皿和金屬用具。王水具有良好的去污作用，王水不但能溶解較活潑金屬和氧化物，而且還能溶解不活潑的金、鉑等幾乎所有的金屬。在拋光工藝中需用到鉻離子拋光液、銅離子拋光液等進行化學機械拋光，其中，鉻離子拋光既有機械拋光的平整度好，無橘皮狀腐蝕坑等優點，又有化學拋光結構損傷較小的優點，銅離子化學機械拋光速度快，表面質量好。在擴散工藝中，還常用到液態摻雜源，如硼酸三甲酯，三氯氧磷，三氯化磷等。無水硼酸三甲酯在室溫下是一種無色透明的液體。在光刻工藝中常丁酮做顯影液。在化學腐蝕工藝中要用到腐蝕液，如硝酸在硅的混合腐蝕液中起到氧化劑作用，使硅氧化成二氧化硅，生成的二氧化硅被絡合劑氫氟酸絡合，達到腐蝕的目的。而腐蝕鋁一般用85%的磷酸腐蝕液。氫氟酸能溶解二氧化硅，在化學清洗和腐蝕工藝中常利用這一特性來腐蝕剝離、石英和硅片表面上的二氧化硅層。?

但是很多化學液體都不穩定，容易分解產生氣泡。比如在半導體器件生產中常利用過氧化氫（H₂O₂，俗稱雙氧水）在酸性和堿性溶液中具有強氧化性來清除有機和無機雜質，然而雙氧水很不穩定，容易分解，在普通條件下將慢慢分解成水和氧氣。臭氧水也容易分解產生氧氣。這些易分解的化學液體若在管道內長時間靜置，將會產生大量氣體并在液體中形成氣泡，而如果傳輸管道中的化學液體中混有氣泡，流量計將會不穩定導致測量不準確，并誤報警。而現有技術的閥門沒有回流功能，閥門處于關閉狀態時，管道中的化學液體處于靜止狀態，很容易產生氣泡；現有技術的閥門也沒有氣泡釋放功能，產生的氣泡會隨著閥門的打開流向流量計，導致儀表不穩定等問題。?

實用新型內容

鑒于以上所述現有技術的缺點，本實用新型的目的在于提供一種氣泡釋放閥，用于解決?現有技術中傳輸管道中的化學液體為靜態并混有氣泡，導致流量計不穩定、測量不準確、并誤報警的問題。?

為實現上述目的及其他相關目的，本實用新型提供一種氣泡釋放閥，該氣泡釋放閥包括設有液體輸送管道的閥殼、裝設于該閥殼內用于控制液體輸送通斷的氣動閥以及與該氣動閥聯動的氣泡釋放裝置；所述氣泡釋放裝置包括與所述液體輸送管道連通的氣泡釋放管道以及一端設置第一彈簧，另一端與氣動閥連接用于控制氣泡釋放管道通斷的滑塊。?

可選地，所述滑塊與氣動閥通過固定于閥殼內的傳動裝置連接。?

可選地，所述傳動裝置包括至少一個傳動輪以及與傳動輪配合的傳動帶，該傳動帶一端連接滑塊，另一端連接氣動閥。?

可選地，所述氣動閥包括控制所述液體輸送管道通斷的閥芯以及閥控制件，所述閥控制件包括活塞腔、位于所述活塞腔內的活塞、一端與活塞腔的頂部接觸、另一端與活塞連接的第二彈簧以及固定在活塞上的連接桿；所述連接桿的一端與所述閥芯連接，另一端穿通所述活塞腔的頂部。?

可選地，所述活塞腔的底部設有通氣裝置，所述通氣裝置外接氣源。?

可選地，所述滑塊上設有通孔，在所述閥芯位于所述液體輸送管道內阻斷液體輸送時，所述通孔與所述氣泡釋放管道對齊導通。?

可選地，所述通孔與所述氣泡釋放管道的橫截面為圓形，所述通孔的直徑小于或等于所述氣泡釋放管道的直徑。?

可選地，所述氣泡釋放閥進一步包括與所述連接桿配合的檢測裝置，該檢測裝置包括光傳感器以及標識裝置，所述光傳感器固定在所述閥殼的頂部，所述標識裝置與所述光傳感器相連；所述光傳感器包括光發射端及光接收端，所述光發射端與所述光接收端之間設有一容置連接桿的空隙。?

可選地，所述標識裝置包括第一燈泡及第二燈泡，所述第一燈泡與所述光發射端相連，所述第二燈泡與所述光接收端相連。?