[實用新型]真空滅弧室

有效

• 申請號: 201220526898.2
• 申請日: 2012-10-15
• 公開（公告）號: CN202905586U
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 張金伍;吳志明;徐一漢
• 申請（專利權）人: 昆山維安盛電子有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 何平

1.一種真空滅弧室，包括陶瓷外殼、一端設于所述陶瓷外殼內的動導電桿、一端設于所述陶瓷外殼內的靜導電桿、套設于所述動導電桿上的波紋管及設于所述陶瓷外殼兩端的動蓋板與靜蓋板，其特征在于，還包括設置在動導電桿端部的動導電桿端蓋，所述動導電桿端蓋為多邊形，所述動蓋板上設有至少兩個限制所述動導電桿運動的限位板，所述限位板貼近所述動導電桿端蓋的側邊。

2.根據權利要求1所述的真空滅弧室，其特征在于，所述限位板的數量為兩個，分別為第一限位板與第二限位板。

3.根據權利要求2所述的真空滅弧室，其特征在于，所述動導電桿端蓋為長方形，所述第一限位板與所述第二限位板靠近所述動導電桿端蓋相對的兩個側邊設置。

4.根據權利要求2所述的真空滅弧室，其特征在于，所述動導電桿端蓋為梯形，所述第一限位板與所述第二限位板靠近所述動導電端蓋的兩個腰設置。

5.根據權利要求2所述的真空滅弧室，其特征在于，所述動導電桿端蓋為梯形，所述第一限位板與所述第二限位板靠近所述動導電端蓋的兩個底邊設置。

6.根據權利要求1至5中任一權利要求所述的真空滅弧室，其特征在于，所述限位板為梯形，所述限位板的底邊固定在所述動蓋板上。

7.根據權利要求1至5中任一權利要求所述的真空滅弧室，其特征在于，所述限位板上遠離所述動蓋板的一端設有防止所述動導電桿運動幅度過大的擋板。

8.根據權利要求1至5中任一權利要求所述的真空滅弧室，其特征在于，所述真空滅弧室內還設有屏蔽筒與波屏罩，所述屏蔽筒圍在所述動導電桿與所述靜導電桿相接觸的部分，所述波屏罩蓋在所述屏蔽筒上。