[實用新型]一種掩模框架及其對應的蒸鍍用掩模組件

有效

• 申請號: 201220454508.5
• 申請日: 2012-09-07
• 公開（公告）號: CN202913047U
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 魏志凌;高小平;潘世珎
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種掩模框架，其特征在于,包括：

外框,?所述外框包括兩組對邊，所述兩組對邊構成一個中空封閉矩形框架；

固定桿,所述固定桿置于所述外框內側且與掩模板一組對邊連接；

及固定機構，所述固定機構用于連接所述外框和置于所述外框內側的所述固定桿，起到支撐所述固定桿，將向內收縮的所述固定桿向外進行拉伸，起到減少或彌補當所述固定桿將所述掩模板繃緊時產生的所述固定桿邊框向內收縮量的作用。

2.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述中空封閉矩形框架為一體成型或由所述兩組對邊通過連接部件連接構成。

3.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述固定桿通過所述固定機構配合固定在所述外框的一組對邊內側上。

4.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述外框與所述固定桿間設置有配合機構，且所述配合機構使所述外框和所述固定桿連接時具有間隙。

5.根據權利要求4所述的掩模框架，其特征在于，所述配合機構對稱的設置在掩模框架的四個角附近。

6.根據權利要求4所述的掩模框架，其特征在于，所述對應的配合機構是分別位于所述外框和所述固定桿接觸部位具有精確定位的凸起結構和凹陷結構。

7.根據權利要求6所述的掩模框架，其特征在于，所述具有定位作用的凸起結構和凹陷結構是半徑相同、配合后二者能夠實現重合的圓柱體或者是可配合的梯形凸起結構和可與所述梯形凸起結構配合定位的凹陷結構或者是n大于等于1個柱狀凸起結構和可與所述柱狀凸起結構配合的凹陷結構，所述柱狀突起結構和所述柱狀凸起結構配合的凹陷結構的中心線重合且垂直于所述接觸部位表面或者具有配合定位功能的突起球狀結構和凹陷球冠腔室。

8.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述固定機構是螺絲和設置在所述外框上的螺絲沉頭孔結構和設置在固定桿上的螺孔結構。

9.根據權利要求8所述的掩模框架，其特征在于，所述螺絲為密紋螺絲。

10.根據權利要求8所述的掩模框架，其特征在于，所述螺孔結構在所述固定桿上為螺紋盲孔。

11.根據權利要求8所述的掩模框架，其特征在于，所述固定機構在所述外框和所述固定桿長度方向上按規律排列。

12.根據權利要求11所述的掩模框架，其特征在于，所述固定機構為中間密集、兩端稀疏規則排列或均勻排列或中間稀疏、兩端密集排列。

13.根據權利要求8所述的掩模框架，其特征在于，所述固定機構還包括用于增加所述固定桿和所述外框之間支撐力的彈性部件。

14.根據權利要求13所述的掩模框架，其特征在于，所述彈性部件是彈簧。

15.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述外框還包括與有突起平臺，所述突起平臺與所述固定桿對邊下表面緊密接觸，掩膜框架水平放置時，所述突起平臺起到支撐所述固定桿的作用。

16.根據權利要求15所述的掩模框架，其特征在于，所述突起平臺與所述外框對邊的內側均設置有倒角結構或過渡曲線結構。

17.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述固定桿的上表面位置不低于掩模框架上其它結構上與其平行的平面。

18.根據權利要求18所述的掩模框架，其特征在于，所述外框的一組對邊上設置有凸起面，所述固定桿的上表面與其處于同一平面上。

19.根據權利要求1-18任一項所述的掩模框架，其特征在于，所述掩模框架還包括在所述外框一組對邊上設置的與所述固定桿相對應的楔子，所述楔子可以使所述固定桿兩端位置固定。

20.一種對應的蒸鍍用掩模組件，其特征在于，包括權利要求1-19的所述掩模框架和掩模部件，所述掩模部件固定連接在所述掩模框架中的所述固定桿上。

21.根據權利要求20所述的對應的蒸鍍用掩模組件，其特征在于，所述掩模部件是多塊掩模板拼接而成，或者是一體成型的單塊掩模板構成。

22.根據權利要求20所述的對應的蒸鍍用掩模組件，其特征在于，所述掩模部件與構成掩模框架的內框的結合部為膠水粘接或激光焊接連接結構。