[實用新型]一種用于MEMS光學器件的薄膜封帽封裝結構有效
| 申請號: | 201220422223.3 | 申請日: | 2012-08-23 |
| 公開(公告)號: | CN202785632U | 公開(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發明(設計)人: | 羅九斌;歐文;明安杰;張昕;趙敏;秦毅恒;譚振新;顧強;吳健 | 申請(專利權)人: | 江蘇物聯網研究發展中心 |
| 主分類號: | B81B7/00 | 分類號: | B81B7/00 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務所 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
| 地址: | 214135 江蘇省無錫市新區*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 mems 光學 器件 薄膜 封裝 結構 | ||
1.一種用于MEMS光學器件的薄膜封帽封裝結構,包括襯底(9)及位于所述襯底(9)上的MEMS光學結構(8);其特征是:所述襯底(9)上設置薄膜封帽(4),所述薄膜封帽(4)的端部邊緣通過鍵合層(5)與襯底(9)鍵合固定連接;薄膜封帽(4)與襯底(9)間形成容納MEMS光學結構(8)的腔體(11),所述MEMS光學結構(8)位于腔體(11)內;所述薄膜封帽(4)的外表面上覆蓋有第一光學增透膜(6),薄膜封帽(4)的內表面上覆蓋有第二光學增透膜(7),所述第二光學增透膜(7)位于MEMS光學結構(8)的正上方。
2.根據權利要求1所述的用于MEMS光學器件的薄膜封帽封裝結構,其特征是:所述薄膜封帽(4)的內表面上設置吸氣劑層,并在薄膜封帽(4)通過鍵合層(5)與襯底(9)鍵合時激活吸氣劑層。
3.根據權利要求1所述的用于MEMS光學器件的薄膜封帽封裝結構,其特征是:所述襯底(9)內設有貫通襯底(9)的電連接通孔(10),所述電連接通孔(10)與MEMS光學結構(8)電連接。
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