[實用新型]一種剝離涂層下縫隙內(nèi)金屬腐蝕試驗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220421216.1
• 申請日: 2012-08-23
• 公開（公告）號: CN202744629U
• 公開（公告）日: 2013-02-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫成;許進;閆茂成;吳堂清;于長坤;龍康
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學院金屬研究所
• 主分類號: C23F13/06
• 分類號: C23F13/06
• 代理公司: 沈陽優(yōu)普達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234
• 代理人: 張志偉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及金屬腐蝕試驗裝置，更具體地說，是涉及一種剝離涂層下縫隙內(nèi)金屬腐蝕試驗裝置。

背景技術(shù)

通常埋地管線防腐涂層對腐蝕介質(zhì)的隔離作用并不是完美的。由于涂層材料本身的缺陷（針孔、漏點等）以及管道運輸、裝卸及施工過程中，都會對涂層造成機械損傷，管道埋地后周圍土壤環(huán)境作用（如：土壤應(yīng)力、陰極析氫等因素）、第三方破壞等都會導致涂層缺陷的形成與擴展。上述結(jié)果都會導致防腐涂層失去粘結(jié)力而發(fā)生剝離，在管道表面與涂層之間形成縫隙，一旦環(huán)境中的腐蝕性介質(zhì)（如地下水、氧氣、二氧化碳、硫酸根離子、氯離子及微生物等）滲入縫隙內(nèi)，就會形成局部腐蝕微環(huán)境，就將導致剝離涂層下縫隙內(nèi)管道發(fā)生腐蝕。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足之處，要解決的技術(shù)問題在于提供一種模擬剝離涂層下縫隙內(nèi)金屬腐蝕試驗裝置，采用該設(shè)備測量剝離涂層下縫隙內(nèi)管道發(fā)生腐蝕的情況，可以對縫隙內(nèi)微環(huán)境變化進行實時監(jiān)測。

為了實現(xiàn)本發(fā)明的上述問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案，

一種剝離涂層下縫隙內(nèi)金屬腐蝕試驗裝置，其特征在于，包括底板、置于底板上并與底板固定的蓋板，其中蓋板與底板之間具有縫隙，所述蓋板一側(cè)為溶液區(qū)，溶液區(qū)與縫隙區(qū)相通，另一側(cè)上均勻間隔設(shè)置有鹽橋，用以外接參比電極，每個鹽橋兩側(cè)對應(yīng)的位置均分別設(shè)置有輔助電極和復合微電極，所述輔助電極和復合微電極的一端均與縫隙內(nèi)溶液相通，輔助電極和復合微電極的另一端分別通過銅導線與測量儀器相連接；所述底板上設(shè)置有兩個以上的小試樣放置區(qū)，小試樣放置區(qū)的位置與輔助電極一一對應(yīng)。

進一步地，所述溶液區(qū)內(nèi)設(shè)置有一個與外加電源相連的溶液區(qū)輔助電極和一個連接外加電源用的溶液區(qū)鹽橋，溶液區(qū)中還設(shè)置有復合微電極。

進一步地，所述底板上與蓋板上復合微電極相對應(yīng)的位置設(shè)置有長條形大試樣放置區(qū)。

進一步地，蓋板與底板的兩端通過鉚釘密封固定在一起，蓋板與底板之間設(shè)置具有厚度的墊片，蓋板與底板之間通過墊片形成縫隙區(qū)，溶液區(qū)與縫隙區(qū)相通。

進一步地，所述鹽橋的數(shù)目根據(jù)實驗具體要求設(shè)置兩個以上，用以測量與縫隙口不同距離處微環(huán)境變化。

進一步地，所述復合微電極采用微離子選擇性電極，包括：并排獨立設(shè)置的pH微電極、氯離子微電極、氧化還原電位微電極。

進一步地，pH微電極為鎢/氧化鎢pH微電極，氯離子微電極為Ag/AgCl微電極，氧化還原電位微電極為鉑絲氧化還原電位微電極。

本發(fā)明具有如下的優(yōu)點和有益效果：

1、本發(fā)明可以對縫隙內(nèi)金屬進行不同縫隙深度電化學測量，同時可以對縫隙內(nèi)微環(huán)境變化進行實時監(jiān)測。電化學測量主要是通過在底板上不同深度處封裝小試樣，在蓋板上小試樣對應(yīng)位置封裝輔助電極和鹽橋（鹽橋外接觸與參比電極連接），從而形成三電極體系，最終對縫隙內(nèi)金屬進行電化學測量。縫隙內(nèi)微環(huán)境測量主要是通過在蓋板上封裝微離子選擇性電極即復合微電極（圖4），從而對縫隙內(nèi)溶液理化性質(zhì)進行實時監(jiān)測。

2、本發(fā)明設(shè)備具有體積小，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，檢測精度高等優(yōu)點。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1的俯視圖；

圖3為本發(fā)明中底板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明中復合微電極的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，?1、蓋板；2、底板；3、墊片；4、鉚釘；5、鹽橋；6、復合微電極；7、溶液區(qū)輔助電極；8、溶液區(qū)鹽橋；9、輔助電極；10、縫隙區(qū)；11、溶液區(qū)；12、小試樣放置區(qū)；13、大試樣放置區(qū)；14、pH微電極；15、氯離子微電極；16、氧化還原電位微電極。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進行詳細地說明。

實施例

如圖1~3所示，本發(fā)明剝離涂層下縫隙內(nèi)金屬腐蝕試驗裝置，包括底板2、置于底板2上并與底板2固定的蓋板1，其中蓋板1與底板2之間留有縫隙，蓋板1與底板2的兩端通過鉚釘4密封固定在一起，蓋板1與底板2之間設(shè)置具有厚度的墊片3可造成縫隙。本實施例中，墊片3采用PTFE材料。