[實用新型]具有多腔體的氣相蝕刻設備

有效

• 申請號: 201220411908.8
• 申請日: 2012-08-17
• 公開（公告）號: CN202712119U
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 陳亞理
• 申請（專利權）人: 晶呈科技股份有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨;丁金玲

1.一種具有多腔體的氣相蝕刻設備，至少包括：

一工作腔體，利用一制程氣體以蝕刻一物件對象，并產生一殘余氣體，該工作腔體具有一第一開口，且該工作腔體內具有一腔體壓力；

一除氣腔體，包覆所述工作腔體，且該除氣腔體具有一第二開口，該除氣腔體內具有一除氣壓力，且所述腔體壓力大于該除氣壓力，以排出該殘余氣體；以及

一防護腔體，包覆所述除氣腔體，該防護腔體內具有一氣體壓力，且該氣體壓力大于所述除氣壓力，藉此擠壓所述除氣壓力。

2.如權利要求1所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，所述防護腔體中的氣體壓力大于或等于所述工作腔體中的腔體壓力，可對所述除氣腔體施加該氣體壓力。

3.如權利要求2所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，其中所述工作腔體、所述除氣腔體及所述防護腔體各具有一通口，所述通口利用一氣體管路分別對應連接一氣體傳輸裝置、一洗氣裝置及一壓縮干燥空氣裝置，且所述腔體壓力是由該氣體傳輸裝置提供，所述除氣壓力是由該洗氣裝置提供，該氣體壓力是由該壓縮干燥空氣裝置提供。

4.如權利要求3所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，其中所述工作腔體、所述除氣腔體、所述防護腔體及所述氣體管路的溫度均為20.01～99.9℃。

5.如權利要求3所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，其中所述工作腔體與所述氣體傳輸裝置之間、所述除氣腔體與所述洗氣裝置之間以及所述防護腔體與所述壓縮干燥空氣裝置之間各具有一單向閥，以分別對應控制該制程氣體及該殘余氣體的流向。

6.如權利要求3所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，還包括：

一氣體回收裝置，連接所述洗氣裝置及所述氣體傳輸裝置，接收所述殘余氣體，以產生一蝕刻氣體至所述氣體傳輸裝置，該氣體傳輸裝置可將該蝕刻氣體結合所述制程氣體一并傳輸至所述工作腔體。

7.如權利要求1所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，更包括：

一氣體防泄組件，以密封所述第二開口。?

8.如權利要求7所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，其中所述氣體防泄組件為O型環密封或填襯墊（packing）。

9.如權利要求7所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，其中所述氣體防泄組件的材質為抗腐蝕軟性材料，例如鐵氟龍或全氟化的材料。

10.如權利要求3所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，其中所述制程氣體為一含氟氣體，該含氟氣體可為氟化氮氣體、氟氣、氟化氯氣體或氟化氫氣體，且所述防護腔體中的氣體壓力是由所述壓縮干燥空氣裝置利用惰性氣體產生，該惰性氣體可為氦氣、氖氣、氬氣、氪氣、氙氣或氡氣。

11.如權利要求1所述的具有多腔體的氣相蝕刻設備，其特征在于，其中所述蝕刻的物件對象為太陽能電池、半導體或平面顯示器基板。?