[實用新型]一種用于內窺的多模式結構光投射裝置有效

申請號：	201220405709.6	申請日：	2012-08-16
公開（公告）號：	CN202748013U	公開（公告）日：	2013-02-20
發明（設計）人：	于曉洋;王洋;于雙;吳海濱;于舒春;陳德運	申請（專利權）人：	哈爾濱理工大學
主分類號：	G01B11/25	分類號：	G01B11/25
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	150080 黑龍***	國省代碼：	黑龍江;23
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種用于模式結構投射裝置
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【權利要求書】：

1.一種用于內窺的多模式結構光投射裝置，其特征在于它包括光源供電系統、導線、半導體基板、LED線陣、耦合系統、光纖束和投射光學系統，LED線陣設置在半導體基板上，LED線陣是由LED點組成的線陣，光源供電系統通過導線與半導體基板連接，可變的光強通過耦合系統進入光纖束，在遠端經過耦合系統進入投射光學系統，通過投射光學系統，拓展成長條狀光條紋，投射到被測物的表面。

2.根據權利要求1所述的一種用于內窺的多模式結構光投射裝置，其特征在于所述的光纖束由光纖組成，根據LED點的數量確定光纖的數量組成光纖束。

3.根據權利要求2所述的一種用于內窺的多模式結構光投射裝置，其特征在于所述的LED線陣是由LED點組成的線陣，數量為2的指數倍或由相移結構光編碼周期決定的數量，每一個LED點對應兩個耦合系統、一根光纖和投影光學系統。

4.根據權利要求3所述的一種用于內窺的多模式結構光投射裝置，其特征在于所述的LED線陣上下兩側分別額外對稱排列一個LED點，每個LED點對應兩個耦合系統、一根光纖和投影光學系統。??

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