[實用新型]一種具有水膜鋪開功能的濕法刻蝕機

有效

• 申請號: 201220362057.2
• 申請日: 2012-07-25
• 公開（公告）號: CN202830170U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 王虎;靳建光;蔡鐘明;邱小永
• 申請（專利權）人: 浙江貝盛光伏股份有限公司
• 主分類號: C23F1/08
• 分類號: C23F1/08
• 代理公司: 湖州金衛知識產權代理事務所(普通合伙) 33232
• 代理人: 裴金華

技術領域

本實用新型屬于太陽能電池生產制造領域，具體涉及一種可將水膜完全鋪開覆蓋在“N”型硅片表面的濕法刻蝕機。

背景技術

目前濕法刻蝕機臺采用噴灑水膜保護“N”型硅片表面的方式，通過滾輪將藥液帶起，達到去除太陽能電池片背面和邊緣“N”型硅片層的目的。但是在水膜擴散的過程中?，不同類型硅片表面狀態差異很大，導致水膜的擴散效果存在差異；如果水膜不能完全覆蓋“N”型硅片表面，那么槽內的酸液和酸霧就會腐蝕沒有被水膜保護的“N”型硅片表面，造成過刻和黑邊，從而導致太陽能電池片效率下降，不良率上升。

實用新型內容

本實用新型的目的是為解決上述問題提供一種利用吹風裝置能將水膜完全鋪開覆蓋在硅片表面的濕法刻蝕機。

本實用新型的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現的：

一種具有水膜鋪開功能的濕法刻蝕機，包括刻蝕機臺和位于刻蝕機臺上方的噴水裝置，在刻蝕機臺上方噴水裝置的一側設置有用于吹開由噴水裝置噴淋到刻蝕機臺上傳送的硅片上表面的水膜的吹風裝置。

作為優選，所述吹風裝置位于所述噴水裝置硅片傳送方向的一側。

原有濕法刻蝕機臺通過噴水裝置簡單直接地將水膜噴到下方的硅片表面，水膜不能完全覆蓋硅片。本實用新型的水膜鋪開裝置，通過在噴水裝置后方設置吹風裝置，使水膜噴到硅片表面上，再經吹風裝置吹出氣流，利用氣流的擾動和推力使水膜完全覆蓋硅片表面。再進行濕法刻蝕，避免了過刻和黑邊，提高太陽能電池片的成品率和產品優良率。

作為優選，所述吹風裝置包括相互連接的送氣管和出氣頭，所述出氣頭上設置有朝向硅片的噴氣孔。

作為優選，所述噴氣孔噴氣方向與所述硅片行進方向呈30－80度角。

作為優選，所述吹風裝置上設置有多個噴氣孔。

作為優選，所述噴氣孔直徑為0.5-3mm。

作為優選，所述噴氣孔之間中心間距大于20mm。

采用精密鉆孔技術鉆孔，確保孔徑大小符合設計標準，吹出氣流的速度和方向均一。

作為優選，所述噴氣孔噴出的氣體為惰性氣體或壓縮空氣。

作為優選，所述惰性氣體為氮氣。

作為優選，所述吹風裝置為PVC裝置。

通過該裝置吹出的氣流，準確的加速由水膜的擴散，確保水膜完全覆蓋硅片“N”型面。

綜上所述，本實用新型具有以下有益效果：

1.????吹風裝置采用氣流推動原理，通過該裝置吹出的氣流，準確的加速水膜的擴散，確保水膜完全覆蓋硅片“N”?型硅片面；

2.????吹風裝置采用耐強勢、不老化、不變形的PVC材料，確保裝置能夠適應惡劣的生產環境；

3.????該吹風裝置結構簡單，成本低，卻大大提高了成品的性能。

附圖說明：

圖1是刻蝕機臺、噴水裝置和吹風裝置示意圖；

圖中1－刻蝕機臺，2－噴水裝置，3－吹風裝置，4－硅片，5－水膜。

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型作進一步詳細說明。

本具體實施例僅僅是對本實用新型的解釋，其并不是對本實用新型的限制，本領域技術人員在閱讀完本說明書后可以根據需要對本實施例做出沒有創造性貢獻的修改，但只要在本實用新型的權利要求范圍內都受到專利法的保護。?

實施例一：

如附圖所示，一種具有水膜鋪開功能的濕法刻蝕機，包括刻蝕機臺1和位于刻蝕機臺1上方的噴水裝置2，在刻蝕機臺1上方噴水裝置2的一側設置有用于吹開由噴水裝置2噴淋到刻蝕機臺1上傳送的硅片4上表面的水膜5的吹風裝置3。所述吹風裝置3位于所述噴水裝置2硅片4傳送方向的一側。所述吹風裝置3包括相互連接的送氣管和出氣頭，所述出氣頭上設置有朝向硅片的噴氣孔。所述噴氣孔噴氣方向與所述硅片行進方向呈30度角。所述吹風裝置3上設置有5個噴氣孔。所述噴氣孔直徑為0.5mm。所述噴氣孔之間中心間距大于25mm。所述噴氣孔噴出的氣體為惰性氣體。所述惰性氣體為氮氣。所述吹風裝置為PVC裝置。

硅片4通過刻蝕機臺1傳送過程中，噴水裝置2將水膜5噴到硅片4表面，再經吹風裝置3吹出的氣流準確的加速水膜5的擴散，確保水膜5完全覆蓋硅片4表面。

本濕法刻蝕機，能夠有效解決不同類型硅片4過刻和黑邊的問題，從而提升了太陽能電池片的生產效率和優良率。該吹風裝置3設計簡易，成本低廉，運行控制穩定，和原機臺的匹配性很好。

實施例二：